刘小勤
,
曾冬铭
,
徐钦建
,
黄凤祥
,
刘中兴
表面技术
采用循环伏安法合成了一种新的聚合物膜——聚8-羟基喹啉膜,推测了聚合的机理,通过红外光谱分析了聚合膜的组成.采用单因素实验优化了成膜条件,结果表明,循环伏安法形成聚8-羟基喹啉膜的最佳条件是:8-羟基喹啉浓度为0.002 mol/L,氢氧化钠浓度为0.4 mol/L,扫描速度30 mV/s,扫描8圈.采用该成膜条件在镀镍工件上电沉积聚8-羟基喹啉,其表面形成了一层浅黄色明亮光滑的致密薄膜,达到封孔目的,使得工件的耐蚀性显著提高.
关键词:
电沉积
,
聚8-羟基喹啉
,
防腐蚀
,
循环伏安法
刘小勤
,
黄凤祥
,
曾冬铭
,
黄发军
,
刘中兴
电镀与涂饰
采用恒电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜.研究了沉积电位、8-羟基喹啉浓度、NaOH浓度、沉积时间等工艺条件对薄膜耐蚀性的影响.分别采用盐水周浸泡试验、三氯化铁缝隙试验和Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性.采用扫描电镜表征了聚8-羟基喹啉薄膜的表面形貌.恒电位法沉积的最佳工艺条件为:8-羟基喹啉2 mmol/L,NaOH 0.4 mol/L,电位0.5 V,时间300 s,室温.采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性略优于循环伏安法试样,远优于空白工件.
关键词:
镀镍层
,
8-羟基喹啉
,
薄膜
,
聚合
,
电沉积
,
恒电位法
,
耐蚀性
黄凤祥
,
满瑞林
,
胡俊利
,
赵鹏飞
电镀与涂饰
研究了添加剂镧盐和铈盐对304不锈钢表面着色膜的影响.实验条件为:铬酸酐250 g/L,硫酸270 mL/L,硝酸镧或硫酸铈0.4 g/L,温度85℃,反应时间8～13 min.分别制备了金黄色基础着色膜、镧着色膜和铈着色膜.采用FeCl3缝隙腐蚀试验、塔菲尔极化曲线、电化学阻抗谱(EIS)等方法对着色膜的耐蚀性进行了检测.结果表明,在铬酸-硫酸着色液中加入稀土能有效提高着色膜的耐蚀性,而镧盐的效果又优于铈盐.金相显微镜观察表明,镧盐和铈盐着色膜更加均匀致密.初步探讨了稀土提高着色膜耐蚀性的机制.
关键词:
不锈钢
,
铬酸
,
着色
,
稀土
,
耐蚀性
,
电化学
刘小勤
,
曾冬铭
,
黄凤祥
,
刘中兴
电镀与涂饰
采用8-羟基喹啉的碱性水溶液,分别通过循环伏安法和恒电位法在镍基体上电沉积制备了聚8-羟基喹啉薄膜.探讨了2种方法制备聚8-羟基喹啉薄膜的电化学行为,并对比研究了不同方法所得试样的表面形貌和耐蚀性.结果表明,循环伏安法电沉积聚8-羟基喹啉的氧化峰为0.563 V和0.481 V,还原峰则位于0.318 V;恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉包含聚合物成核和长大2个过程.恒电位法所得聚8-羟基喹啉薄膜较循环伏安法所得膜更平整,耐蚀性更好.聚8-羟基喹啉薄膜增大了基体表面的电荷转移电阻,隔绝了腐蚀介质,从而有效增强了镍基体的耐蚀性.
关键词:
镍镀层
,
羟基喹啉
,
电沉积
,
聚合
,
循环伏安法
,
恒电位法
,
耐蚀性
黄凤祥
,
满瑞林
,
胡俊利
,
刘小勤
,
刘晶晶
表面技术
研究了着色生产中出现的不均匀彩色不锈钢板的电化学褪膜技术.通过褪膜试样的表面光泽度及再着色性能两方面,评价褪膜工艺的优劣.通过光反射率法和质量损失速率法确定最佳褪膜配方,并探讨了温度、电流密度对褪膜试样表面光泽度的影响.分别检测了褪膜后再着色试样的色差、耐蚀性及耐磨性,结果显示,褪膜再着色试样的色差小于0.7,腐蚀速率为11.5831 g/(m2·h),耐摩擦次数达1950次,与常规着色试样的性能相当,表明褪膜试样的再着色能力优良.
关键词:
不锈钢
,
电化学褪膜
,
再着色
刘小勤
,
黄凤祥
,
曾冬铭
,
黄发军
,
刘中兴
电镀与涂饰
采用循环伏安法在镀镍工件表面制备聚8?羟基喹啉–苯酚复合薄膜。研究了8?羟基喹啉和苯酚的浓度比、单体总浓度、氢氧化钠浓度、扫描速率和循环次数对复合薄膜耐蚀性的影响。分别采用盐水浸泡试验(时间1周)、三氯化铁缝隙试验、Tafel极化曲线法对比研究了聚8?羟基喹啉–苯酚复合薄膜、聚8?羟基喹啉薄膜和空白工件的耐蚀性。采用红外光谱仪、扫描电镜对所得复合薄膜的表面成分和形貌进行表征。电沉积复合膜的最佳工艺条件为：8?羟基喹啉和苯酚的浓度比1∶30，单体总浓度0.021 mol/L， NaOH浓度0.8 mol/L，扫描速率100 mV/s，循环次数6，室温。在最佳工艺条件下制备的聚8?羟基喹啉–苯酚复合薄膜的腐蚀电位、腐蚀速率分别为?0.2770 V和4.54×10?4 g/(m2·h)，耐蚀性优于聚8?羟基喹啉膜，远优于空白镀镍工件。
关键词:
8-羟基喹啉
,
苯酚
,
聚合
,
电沉积
,
循环伏安法
,
镍
,
耐蚀性
刘小勤
,
曾冬铭
,
徐钦建
,
黄凤祥
,
刘中兴
电镀与涂饰
采用不对称交流脉冲电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜.研究了阶跃电位、阶跃时间、重复次数和溶液中8-羟基喹啉含量等工艺条件对电沉积聚8-羟基喹啉薄膜的影响.分别采用塔菲尔曲线测量、扫描电镜和能谱分析对电沉积后工件的耐蚀性、薄膜的表面形貌和组成进行分析.最佳工艺条件为:8-羟基喹啉0.002 mol/L,氢氧化钠0.4 mol/L,正阶跃电位0.55V,负阶跃电位-0.05V,正阶跃时间0.2 s,负阶跃时间0.1 s,重复次数100.采用最佳工艺处理后,工件的腐蚀电位、腐蚀速率分别为-0.32 V和4.158 1×10-3 g/(m2.h),耐蚀性优于未处理的工件,且与铬钝化处理的工件相当.
关键词:
8-羟基喹啉
,
聚合
,
电沉积
,
不对称交流脉冲电位法
,
镀镍
,
耐蚀性
