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氢等离子体处理对类金刚石膜场发射性能的影响

赵立新 , 彭鸿雁 , 陈玉强 , 罗玉杰 , 陈宝玲 , 徐闰 , 黄健 , 王林军 , 夏义本 , 金曾孙

新型炭材料

采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的影响.结果表明:氢等离子体处理后,类金刚石膜的场发射性能明显提高,其发射阈值电场由26 V/μm下降到19 V/μm.氢等离子体刻蚀除去了类金刚石膜生长表面的富含石墨的薄层,露出的新表面具有较低的功函数;膜表面的悬键被氢原子饱和,进一步降低了电子亲和势,改善了膜的场发射性能.

关键词: 类金刚石膜 , 氢等离子体处理 , 场发射

钨酸钠含量对S135钢电沉积铁-镍-钨合金镀层的影响

陈孝文 , 张德芬 , 陈明礼 , 李曾珍 , 朱维 , 王旭 , 李红军 , 黄健 , 王宇

电镀与涂饰

利用钨酸钠通过电沉积在S135高强度钻杆用钢表面制备了Fe-Ni-W合金镀层.采用极化曲线测量以及结合力、显微硬度、厚度等测试研究了Fe-Ni-W合金镀层的耐蚀性和机械性能,并利用X射线衍射分析了其结构.结果表明,在其他条件相同(即FeSO4·7H2O 30 g/L,NiSO4·6H2O 40 g/L,C6H8O7·H2O适量,添加剂YC-21~5g/L,pH 6.5,温度70℃,电流密度4A/dm2,时间1 h)的情况下,改变钨酸钠的质量浓度(20~60 g/L),所得镀层的性能也不相同.当钨酸钠质量浓度为50 g/L时,镀层各种性能指标均达到最佳,镀层中主要含有Ni17W3和FeNi3等物相.

关键词: , 铁-镍-钨合金 , 电镀 , 钨酸钠 , 结构 , 性能

大功率准分子激光制备类金刚石膜及场发射性能

赵立新 , 彭鸿雁 , 陈玉强 , 陈宝玲 , 徐闰 , 黄健 , 王林军 , 夏义本 , 王惟彪

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.05.018

采用大功率高重复频率准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了激光功率密度和重复频率对类金刚石膜的结构及场发射性能的影响.保持重复频率不变,提高激光功率密度可提高膜中sp3键碳的含量和膜的场发射性能;在最佳激光功率密度下,当重复频率由200 Hz提高到500 Hz,膜中sp3键碳的含量和膜的场发射性能先提高,后降低,在300 Hz时达到最佳.在300 Hz重复频率、1010W/cm2激光功率密度下.膜的发射阈值电场为26 V/μm,在34 V/μm的电场下测得电流密度为14μA/cm2.根据类金刚石膜的场发射机理对上述结果进行了分析解释.

关键词: 脉冲激光沉积 , 类金刚石膜 , 场发射

过程氧化对等离子喷涂Mo涂层耐磨性能的影响

陈志坤 , 张忠诚 , 朱晖朝 , 黄健 , 康忠明 , 鲍雪球 , 黄科里

材料导报

利用GTV F6等离子喷枪制备Mo涂层.用SEM观察Mo涂层形貌,用XRD分析喷涂后Mo涂层的物相,用氧氮测定仪测定涂层氧含量,用干摩擦方法测定氧化物对涂层耐磨性能的影响,测定浸油环境下涂层摩擦系数.结果表明,等离子喷涂Mo涂层呈明显的层状组织,且伴有一定程度的过程氧化.过程氧化产生的Mo的氧化物弥散分布在涂层中,能够起到增大显微硬度、降低干摩擦磨损失重的作用.Mo涂层中气孔率越高,对浸油环境下的摩擦系数的影响越大.气孔率高的Mo涂层摩擦系数较小,从而减缓涂层的磨损.

关键词: Mo涂层 , 等离子喷涂 , 过程氧化 , 耐磨性能

纳米光学金刚石薄膜的分析与改进

胡广 , 王林军 , 祝雪丰 , 刘建民 , 黄健 , 徐金勇 , 夏义本

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.010

由于极其优良的热学和光学性能,纳米金刚石薄膜极有可能应用于背投电视的激光光学窗口.文章通过在热丝辅助化学气相沉积法中采用偏压增强成核(BEN-HFCVD),成功地在(100)硅衬底上制得了适于作为光学窗口的高质量的光学级纳米金刚石薄膜,采用的偏压为-30 V.通过表征制备的纳米金刚石薄膜,发现它具有光滑的表面,表面均方根粗糙度(RMS)约为10 nm,并且对自支撑纳米金刚石薄膜进行透射光谱分析得到其透射率达到了50 %.

关键词: 纳米金刚石 , 光学性质 , 表面粗糙度 , 偏压增强成核-热丝辅助化学气相沉积法

EA-HFCVD 沉积纳米金刚石膜的光致发光分析

祝雪丰 , 王林军 , 胡广 , 刘健敏 , 黄健 , 徐金勇 , 夏义本

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.007

采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积出晶粒尺寸为30 nm的均匀金刚石膜.生长过程中,预先加6 A偏流生长1 h,然后在0.8 kPa条件下,无偏流生长3 h.光致发光谱中存在4个发光中心分别位于1.682 eV, 1,564 eV, 1,518 eV和1.512 eV的发光峰.1.682 eV处发光峰源于衬底硅原子掺杂于膜中引起的缺陷;其他发光峰源于金刚石晶格振动声子.光致发光强度越大对应的缺陷密度越大,从而降低了场发射域值电场强度,其关键可能源于金刚石膜电导型晶界.

关键词: 光致发光 , 纳米金刚石膜 , 电子辅助-热丝化学气相沉积

马来酸酐等离子体聚合改性聚丙烯多孔膜的表面结构与亲水性

马骏 , 王伟 , 黄健 , 王晓琳

高分子材料科学与工程

以马来酸酐为单体,采用低温等离子体聚合的方法对聚丙烯(PP)多孔膜的表面进行改性.红外光谱(FT-IR)和扫描电镜(SEM)等结果表明,马来酸酐以双键聚合,同时伴随着酸酐的开环.低处理功率时以表面聚合为主,酸酐结构破坏较轻,延长聚合时间可以提高聚合量;高处理功率时以气相聚合为主,酸酐结构的破坏加剧,易产生交联结构.马来酸酐等离子体聚合物水解后可产生羧基,但水解作用并不完全,膜表面的亲水性与等离子体聚合条件及聚合物结构紧密相关.

关键词: 等离子体聚合 , 马来酸酐 , 聚丙烯多孔膜 , 亲水化改性

N-异丙基丙烯酰胺接枝聚乙烯微孔膜的结构形态和动电现象

齐旺顺 , 王晓琳 , 黄健 , 余学海

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2003.01.001

用等离子体接枝法,在聚乙烯(PE)微孔膜上,接枝了具有温敏性的聚N-异丙基丙烯酰胺(PNIPAAm).X射线电子能谱(XPS)、红外光谱(FT-IR)测试表明,PNIPAAm接枝链同时存在于N-异丙基丙烯酰胺接枝聚乙烯(NIPAAm-g-PE)温敏性接枝膜的微孔外表面及膜孔内部,接枝链在低临界溶解温度(LCST)32 ℃上下具有不同的形态结构.透过实验表明,接枝膜的水通量在LCST附近发生了5倍以上的急剧变化.流动电位研究表明,温度低于LCST时,接枝膜微孔表面zeta电位和电荷密度为较小的负值;温度高于LCST时,zeta电位和电荷密度仍为负值,但其绝对值急剧增加,并且随温度的升高继续增加.

关键词: N-异丙基丙烯酰胺 , 聚乙烯微孔膜 , 流动电位

CeO2/Ni/Mo/SBA-15甲烷二氧化碳重整催化剂的表征和催化性能

黄健 , 马人熊 , 高志华 , 沈朝峰 , 黄伟

催化学报 doi:10.1016/S1872-2067(11)60347-1

考察了CeO2修饰及未修饰的Ni/Mo/SBA- 15催化剂在CH4-CO2重整上的催化性能并采用N2吸脱附、CO2程序升温脱附、H2程序升温还原、傅里叶红外光谱、X射线衍射、扫描电子显微镜和X射线光电子能谱对催化剂进行了表征.结果表明,在常压,800C条件下,经过100 h在线评价后,Ni/Mo/SBA- 15和CeOz/Ni/Mo/SBA- 15催化剂仍具有高的反应活性和规整的六方介孔结构,其中CeO2修饰的CeO2/Ni/Mo/SBA-15催化剂表面没有积炭形成,表明CeO2的加入促进了Ni物种在SBA-15介孔分子筛表面的分散,从而阻止了Ce/Ni/Mo/SBA- 15催化剂上Ni的烧结和积炭.

关键词: 二氧化碳重整 , 甲烷 , , , 介孔分子筛SBA-15 , 铈修饰

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