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Ho3+掺杂Sc2SiO5激光晶体生长与光谱性能研究

李璇 , 麻尉蔚 , 马凤凯 , 狄聚青 , 郑丽和 , 姜大鹏 , 苏良碧 , 杨秋红 , 徐军

人工晶体学报

采用提拉法分别生长了具有高光学质量的0.5at%和1.0at%的Ho∶ Sc2SiO5(Ho∶ SSO)激光晶体.研究表明晶体空间群为C2/c,晶胞参数为a=0.99723 nm,b=0.64261 nm,c=1.16843 nm,β=103.9°.Ho3+在SSO基质中的分凝系数为0.82.Ho∶ SSO晶体在2085nm处发射截面为1.12×10-20 cm2,发射光谱呈现一个1850~2150nm的宽发射带.当粒子数反转比率β=0.25时,增益截面σg即开始出现正增益.综合评估了晶体的激光性能,表明Ho∶SSO晶体是一种有潜力的2μm波段激光介质.

关键词: Sc2SiO5 , 激光晶体 , 提拉法 , 分凝系数 , 发射光谱

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