蔡宏中
,
易健宏
,
胡昌义
,
常桥稳
,
魏燕
,
郑旭
,
刘伟平
,
陈力
稀有金属材料与工程
以二氯化钯和2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮为原料,在甲醇中合成了一种新的β二酮前驱体-双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钯(Ⅱ).通过元素分析、红外光谱、核磁共振氢谱及单晶X射线衍射等技术对合成的前驱体进行了结构表征.热重-差热分析表明,在N2气氛中,当温度升到291℃时,前驱体基本挥发完全.采用合成的前驱体通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术在石英上沉积制备钯薄膜,利用XRD和AFM分析手段对薄膜的结构和表面形貌进行了表征.结果表明,所得到的薄膜纯净,无其他杂质存在,薄膜表面连续、致密.
关键词:
双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钯(Ⅱ)
,
钯薄膜
,
MOCVD
魏燕
,
陈家林
,
胡昌义
,
蔡宏中
,
郑旭
,
祈小红
,
陈力
贵金属
现代工业和高技术领域中，部分高熔点的贵金属材料(Pt、Rh、Ir)及其合金、复合材料等作为耐高温耐腐蚀型材料具有重要应用。因其具有高熔点、高温抗氧化性、高的抗腐蚀性能及高温强度等一系列优点，近年来在高温材料领域的研究及应用有了突飞猛进的发展。综述了贵金属材料在高温结构材料及高温抗氧化功能涂层方面的研究与应用进展，探索贵金属金属材料在高温领域的发展方向。
关键词:
金属材料
,
高温材料
,
贵金属
,
结构材料
,
抗氧化涂层材料
蔡宏中
,
易健宏
,
魏燕
,
张诩翔
,
郑恄
,
陈力
,
胡昌义
贵金属
用光学显微镜和扫描电镜对尺寸为Φ6 mm的加工态Ir和IrRh40合金棒材的金相组织、高温氧化后的组织和 IrRh40/GH3128合金焊缝进行了研究；采用力学试验机对 IrRh40/GH3128的焊接强度进行了研究。结果表明，Rh的加入在Ir中能起到了明显的细化晶粒作用，显著提高了Ir的抗氧化性能；IrRh40与GH3128合金的焊接性能良好，焊缝强度可达到474 MPa。
关键词:
金属材料
,
Ir
,
IrRh40
,
组织结构
,
性能
蔡宏中
,
魏巧灵
,
魏燕
,
陈力
,
郑旭
,
胡昌义
稀有金属材料与工程
介绍了化学气相沉积(CVD)制备难熔金属钽涂层的原理及方法.采用冷壁式化学气相沉积法,在钼基体上沉积出难熔金属钽层.分析研究了CVD温度对沉积层的沉积速率、组织、结构和硬度等的影响.结果表明:在1000～1200℃温度范围,沉积速率随温度升高而增大 ;当温度超过1200℃时,沉积速率随温度的升高反而略有减小 ;沉积层组织呈柱状晶并随温度的升高逐渐增大 ;沉积层的硬度及密度随温度的升高而逐渐降低.化学气相沉积钽的最佳温度在1100℃左右.
关键词:
化学气相沉积
,
钽
,
组织
,
性能
蔡宏中
,
易健宏
,
魏巧灵
,
陈力
,
魏燕
,
胡昌义
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2013.06.010
介绍了化学气相沉积(CVD)技术制备难熔金属钽涂层的原理及方法.利用TaCl5-H2-HCl反应体系,以冷壁式化学气相沉积法在钼基体表面沉积了钽涂层.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线物相分析仪(XRD)、显微硬度计等分析手段,研究了反应气体(氢气、氯气)的流量变化对钽涂层的沉积速率、结构、表面形貌、硬度及密度等的影响;应用Harris公式,计算了钽涂层的织构系数,获得了钽涂层的择优取向.研究结果表明:随着氢气流量的增加,涂层沉积速率加快,随着氯气流量的增加,涂层的沉积速率则是先增加后减小;涂层由体心立方结构的钽(α-Ta)构成,表面形貌呈类金字塔形结构,涂层(200)晶面方向为最快生长方向;反应气体流量变化对涂层硬度及密度的影响均不明显;涂层维氏硬度在HV 130.94 ～HV 152.43之间,涂层致密性好,相对密度都在99.65％以上.
关键词:
反应气体
,
化学气相沉积
,
钽涂层
,
性能
魏燕
,
胡树兵
,
周永峰
,
张贵平
,
蓝花
材料热处理学报
在Cr25Ni20Si2合金上制备了施加Ni中间层的复合搪瓷涂层,研究了Cr25Ni20Si2合金、搪瓷涂层及含镍中间层的复合搪瓷涂层在800℃熔融盐(75%Na2SO4+25%NaCl)下的腐蚀行为和腐蚀机理.试验表明合金在孕育期结束后发生灾难性腐蚀,腐蚀机理主要遵从硫化-碱融模式;未镀镍搪瓷涂层主要以直接脱落丧失保护能力,复合搪瓷涂层则以物理减薄方式缓慢失效.搪瓷涂层使合金的抗热腐蚀能力提高了30%,复合搪瓷涂层可使合金抗热腐蚀能力提高100%以上.这种复合搪瓷涂层是有效的抗热腐蚀涂层.
关键词:
Cr25Ni20Si2合金
,
复合搪瓷涂层
,
热腐蚀
蔡宏中
,
陈力
,
魏燕
,
胡昌义
稀有金属材料与工程
以乙酰丙酮铱为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在Mo基体上制备Ir薄膜.研究Ir的沉积效果与沉积温度及反应气体(O_2)间的关系.Ir薄膜的沉积速率与沉积温度之间的关系不符合Arrhenius方程,沉积速率与沉积温度绝对温度的倒数呈抛物线关系,当温度为750 ℃时,Ir的沉积速率达到最大值,沉积温度对Ir薄膜的显微形貌有显著影响;O_2的流量对薄膜的成分、形貌及结构等均有显著影响.
关键词:
MOCVD
,
铱
,
薄膜
魏燕
,
胡昌义
,
王云
,
欧阳远良
,
陈力
,
蔡宏中
贵金属
doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2008.02.013
综述了化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)技术制备高温抗氧化涂层-铂族金属(Pt、Ir)涂层及难熔金属(W、Mo、Ta、Nb、Re)的方法.并对部分有报道的沉积参数以及沉积参数对沉积层结构及性质的影响进行了介绍.
关键词:
金属材料
,
铂族金属薄膜
,
难熔金属
,
制备
,
化学气相沉积
