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放置方向和沉积时间对 Ti 大颗粒分布状态的影响

魏永强 , 魏永辉 , 蒋志强 , 田修波

表面技术

目的:研究基体表面和靶表面不同放置方向以及沉积时间对 Ti 大颗粒形貌和分布规律的影响。方法利用电弧离子镀方法在基体上制备 TiN 薄膜,采用扫描电子显微镜观察 TiN 薄膜的表面形貌,利用 ImageJ 图像软件对 TiN 薄膜表面中 Ti 大颗粒的数目和尺寸进行分析。结果靶基间距保持25 cm,当基体表面与靶表面垂直放置时,薄膜表面的大颗粒数目和所占面积比比平行放置时要少,同时出现了典型的长条状大颗粒;随着沉积时间从5 min 增加到50 min,大颗粒数目和所占面积比出现先减小后增加的趋势。结论选择基体表面与靶表面垂直放置,沉积时间为30~40 min 时,薄膜的沉积厚度和减少大颗粒缺陷可以兼顾。

关键词: 电弧离子镀 , TiN , 大颗粒 , 放置方向 , 沉积时间

TFT-LCD中的液晶扩散研究

刘栋宏 , 张琦 , 张磊 , 王修亮 , 毛利军 , 魏永辉

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142902.0213

为了对液晶滴注工艺和相关不良进行优化改善,本文研究了真空对合之后液晶屏内液晶扩散时间与位移的关系.在牛顿流体假设前提下提出了液晶屏倾斜放置下液晶扩散的模型.数学推导证明,前人研究的平放状态下的方程是倾斜角度为0°时的特殊情况.通过两种状态模型计算数据对比可以得出:位移越大,重力对倾斜状态扩散时间影响越显著,这是在同等扩散位移下两种状态扩散时间的差异所在.面板尺寸大小、形状分布设计等参数会影响液晶扩散的最终形状;液晶盒内间隙、隔垫物会影响液晶扩散速度,间隙越均一,隔垫物密度越小,扩散受到的影响越小.实验研究表明,实测的数据与模型理论计算数据基本相符,基于牛顿流体假设下的模型可以较好地预测液晶的扩散行为.

关键词: 液晶扩散 , 液晶滴注工艺 , 牛顿流体 , 纳维-斯托克斯方程

锌黄铜-高速钢互配副的磁场干摩擦特性研究

魏永辉 , 张永振 , 陈跃

材料科学与工艺

为研究直流磁场对抗磁性和铁磁性材料干滑动摩擦学特性的影响,选取锌黄铜和高速钢为实验对象,采用互配副方式利用改进的MPV-1500型摩擦试验机研究了在载荷150 N和滑动速度0.4 m/s工况时锌黄铜和高速钢材料的磁场干摩擦学特性.结果表明:随着磁场的施加和增大,高速钢销和环的磨损率均有减小趋势,而锌黄铜销的磨损率有增大趋势,其环的磨损率却相反,互配副的摩擦系数均有降低趋势;磁场的施加和增大,有利于降低铁磁性材料的磨损,不利于降低抗磁性材料的磨损,含铁磁性材料的摩擦副的摩擦系数均有降低趋势;在抗磁性锌黄铜背面添置铁磁性材料,可克服磁场对锌黄铜干摩擦学特性的不利影响;装卡装置的磁性影响试验研究结果.

关键词: 磁场 , 干滑动摩擦 , 磁吸力 , 电力机车 , 磁场干摩擦

磁场干涉下锌黄铜自配副干摩擦学特性的研究

魏永辉 , 张永振 , 陈跃

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2013.08.004

室温下采用改进的MPV-1500型摩擦试验机,研究锌黄铜自配副的磁场干摩擦学特性和磁场干涉机理.结果表明:磁场的施加和增大加剧了抗磁性锌黄铜的摩擦和磨损,增大了摩擦面的粗糙度,降低了摩擦面的氧元素含量,主要氧化物为Cu64O;随着磁场的增大,锌黄铜的磨损率和摩擦副的摩擦因数均有增大趋势,欲克服磁场对抗磁性锌黄铜干摩擦学特性的不利影响,可在其背面添置铁磁性材料;配副材料选配、对摩面的相对尺寸以及装卡装置的磁性均可影响实验研究结果.

关键词: 磁场 , 干滑动摩擦 , 铜合金 , 电力机车

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