高建杰
,
汤文明
,
吴玉程
,
郑治祥
材料热处理学报
使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射等研究了在N_2气氛中1150℃×10 h等温热处理的Si_3N_4/Ni,Si_3N_4/Ni_3Al平面偶界面固相反应区的形貌、成分分布、显微结构及相组成.结果表明:Si_3N_4/Ni界面固相反应形成约20 μm厚的反应区,反应区主要由Ni_3Si构成,其中分布着大量细密的孔洞;而Si_2N_4/Ni_3Al界面固相反应形成约2 μm厚的反应区,反应区具有比Ni_3Al高得多的Al含量,反应区由NiAl及Ni_3Si构成.Si_3N_4/Ni_3Al具有比Si_3N_4/Ni高得多的界面化学相容性.
关键词:
Si_3N_4
,
Ni_3Al
,
界面固相反应
,
显微结构
,
相组成
曹菊芳
,
汤文明
,
赵学法
,
高建杰
,
吴玉程
,
郑治祥
中国有色金属学报
用扫描电子显微镜、电子能谱仪和X射线衍射仪对SiC/Fe3Al界面固相反应区的成分分布、微结构及相组成等进行分析研究.结果表明:在1 050℃和1 100℃的热处理温度下经10 h扩散反应后,SiC/Fe3Al界面固相反应区由Fe3Si、石墨态C和Fe-Si-Al三元化合物(FeSiAl5及FeSi3Al9)构成,SiC/Fe3Al界面固相反应区由调整的C沉积物区(M-CPZ)和均匀的C沉积物K(R-CPZ)(从SiC侧至Fe3Al侧)构成,调整的C沉积物区的形成归冈于SiC的不连续分解.
关键词:
SiC
,
Fe3Al
,
界面同相反应
,
显微结构
