韩伟
,
何业东
,
王德仁
,
薛润东
,
高唯
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.04.004
采用阴极气膜微弧放电沉积制备ZrO2-Y2O3陶瓷涂层,利用水溶液中阴极气膜放电产生的等离子体的能量,使在阴极表面形成的沉积物直接烧结为陶瓷涂层.研究了沉积涂层的影响因素和涂层形貌及结构.SEM,EDS和XRD分析结果表明,获得的ZrO2-Y2O3陶瓷涂层表面光滑、与基体结合致密、成分和相结构均匀,是一种由Y2O3部分稳定的ZrO2陶瓷涂层.通过测试阴极气膜放电过程中电流随时间的变化以及电位在两电极间分布,分析了阴极气膜放电沉积陶瓷涂层的机制.
关键词:
阴极气膜微弧放电
,
等离子体电解沉积
,
ZrO2-Y2O3陶瓷涂层
王德仁
,
何业东
,
李顺华
,
高唯
中国腐蚀与防护学报
doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2002.02.004
利用低氧分压控制系统,研究了两种In含量的Ag-In合金在550℃和不同氧分压条件下的氧化行为.结果表明:在可以发生内氧化的实验条件下,合金外表面上都有In2O3生成,不同氧分压下所生成的In2O3表现出明显的形状差异.0.21×105 Pa氧分压下合金试样氧化后表面有颗粒状In2O3和纯银块生成,而在低氧分压下试样表面只有丝状的In2O3生成.随着合金中In含量的提高或系统内氧分压的降低,均可起到促进In2O3在试样表面生成的作用.
关键词:
氧化
,
AgIn合金
,
低氧分压控制系统
王德仁
,
何业东
,
李顺华
,
高唯
中国腐蚀与防护学报
利用低氧分压控制系统,研究了两种In含量的Ag-In合金在5 50℃和不同氧分压条件下的氧化行为.结果表明:在可以发生内氧化的实验条件下,合金外 表面上都有In2O3生成,不同氧分压下所生成的In2O3表现出明显的形状差异.0.21 ×105 Pa氧分压下合金试样氧化后表面有颗粒状In2O3和纯银块生成,而在低氧分压 下试样表面只有丝状的In2O3生成.随着合金中In含量的提高或系统内氧分压的降低,均 可起到促进In2O3在试样表面生成的作用.
关键词:
氧化
,
Ag-In alloy
,
low oxygen partial press ure
马颖
,
张洪锋
,
郝远
,
陈体军
,
李元东
,
高唯
材料研究学报
随着AZ91D镁合金微弧氧化反应的进行,膜层逐渐增厚,膜层表面的喷射孔洞和喷射沉积物粗大化,膜层表面粗糙度增大.微弧氧化反应时膜层内部的应力集中会使膜层萌生微裂纹.对基体进行固溶处理后可以改善其微孤氧化膜层中微裂纹的数量和形态以及膜层表面的粗糙度,并能提高微弧氧化膜层的生长速率,同时降低微弧氧化过程的能耗.时效处理会使微弧氧化膜层中的残余应力得以释放,微弧氧化膜的形貌没有发生明显改变,即膜层表面的微裂纹在数世和形态上仍好于未经热处理基体膜层.微弧氧化处理不会引起基体组织的显著变化.在硅酸盐溶液体系中,AZ91D镁合金表面参与微弧氧化反应的Al比Mg少得多,同时还伴随着一个溶液中的Si向镁合金基体内部渗透的过程.
关键词:
金属材料
,
镁合金
,
热处理
,
微弧氧化
,
膜层
,
微裂纹
高唯
,
刘振宇
,
王福会
腐蚀学报(英文)
研究了氩气压力对溅射Ni-20Cr-2Al涂层晶粒尺寸及其抗氧化性能的影响.结果表明,随氩气压力的降低涂层的晶粒尺寸减小,当氩气压力降至0.67Pa时,涂层晶粒直径约为65nm,该涂层在1000℃空气中可以形成单一的氧化铝膜,从而大大提高合金的抗氧化性能.
关键词:
溅射
,
NiCrAl
,
microcrystal