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Ti50Ni40Cu10合金的相变潜热及相变热滞

骆苏华 , 李亚东

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2003.01.023

本文采用示差扫描量热仪(DSC)系统分析了Ti50Ni40Cu10(at.%)合金的马氏体相变潜热(ΔHB2→B19)和逆马氏体相变潜热(ΔHB19→B2)、相变热滞(ΔT)与固溶温度、退火温度和相变热循环间的关系.结果表明:相变潜热随着固溶化温度的升高而明显降低、随着退火温度的升高则略微降低.相变热滞、逆马氏体相变温度在热循环初期迅速降低,当热循环次数超过2次时则均保持不变;逆马氏体相变潜热(ΔHB19→B2和ΔHB19→B19)随着热循环次数(n＜4)的增加有所升高,特别是ΔHB19→B19约增加58%,而热循环次数对马氏体相变温度和潜热ΔHB2→B19则无明显影响.

关键词: Ti50Ni40Cu10 , 相变潜热 , 相变热滞 , 热处理工艺 , 相变热循环

脉冲激光沉积Ti50Ni36Cu14薄膜的成分均匀性

李亚东 , 骆苏华 , 高伟健

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.01.013

采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Ti50Ni36Cu14合金薄膜.研究表明,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片/靶间距)、激光脉冲频率有较大关系.当沉积距离(D)为20～30mm时,可获得成分均匀稳定的合金薄膜;当其它条件相同,激光脉冲频率(F)为5Hz时,合金薄膜与靶成分更为接近.采用PLD技术制备的Ti50Ni36Cu14合金薄膜成分均匀性较好,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体.采用本工艺获得的Ti50Ni36Cu14薄膜的平均成分为47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni和13.57 at.%Cu.

关键词: PLD技术 , Ti50Ni36Cu14 , 合金薄膜 , 成分均匀性

RF磁控溅射工艺对TiNi(1-x)Cux合金薄膜组织形貌的影响

李亚东 , 崔大奎 , 骆苏华

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2002.03.016

采用RF磁控溅射技术制备了TiNi(1-x) Cux合金薄膜,利用扫描电镜、电子能谱仪和XRD技术分析研究了RF磁控溅射工艺对TiNi(1-x)Cux合金薄膜组织形貌的影响规律.结果表明:在基片不加热的条件下溅射薄膜组织结构为非晶,并呈柱状形貌垂直于基片生长;经650～720℃,3 min退火处理后,薄膜均发生晶化转变;在他它条件相同的情况下,溅射功率和工作气压对薄膜组织形貌有很大影响;薄膜的柱状单胞直径、薄膜厚度和生长速度均随溅射功率的增长而增长,但当溅射功率一定时,工作气压增加使柱状单胞直径、薄膜厚度和薄膜的生长速率显著减小;RF磁控溅射过程中,沉积原子的活性及其沉积速率是影响薄膜组织形貌的主要原因.

关键词: RF磁控溅射 , TiNi(1-x)Cux合金薄膜 , 组织形貌

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