罗晶晶
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范旭良
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马荣伟
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胡浩
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牛振江
电镀与涂饰
在FTO(即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃)基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电镜(SEM)和漫反射–紫外可见光谱(UV-Vis DRS)表征了试样的结构、形貌及光学性质。通过在0.2 mol/L Na2SO4溶液中测试样品在可见光和零偏压下的光电流，分析了薄膜的光电化学性能。结果表明，超薄的SnO2修饰层能显著增强Cu2O多孔薄膜的光电化学性能。在SnO2溶胶中浸渍10 s所制备的超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜，其光电流密度是Cu2O未修饰薄膜的4倍。
关键词:
电沉积铜
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氧化亚铜
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二氧化锡
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薄膜
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光电化学
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光电流密度
肖仕清
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郝丽华
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谢萌阳
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马荣伟
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牛振江
电镀与涂饰
doi:10.19289/j.1004-227x.2017.09.004
通过在FeSO4溶液中将FTO(F掺杂SnO2)导电玻璃电化学阴极极化,随后在500℃空气中热氧化,制备出对可见光有响应的Fe掺杂FTO薄膜.用扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征了薄膜的形貌、结构和表面特性.在可见光下测试了薄膜在1.0 mol/L NaOH溶液中零偏压下的光电流-时间曲线.结果显示,电化学修饰后的FTO薄膜表面呈纳米多孔形貌,薄膜中有1％(原子分数)左右的Fe元素掺杂且存在正交结构SnO2和四方结构SnO2两种物相.Fe掺杂FTO的光电流密度为0.5 μA/cm2,比无Fe掺杂的FTO薄膜(0.019 μA/cm2)显著增强.
关键词:
氟掺杂二氧化锡
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铁掺杂
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阴极极化
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可见光
,
光电流
