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采用180nm CMOS工艺的USB2.0端点控制器

詹琰 , 潘利坤 , 赵占霞 , 李拥华 , 王德明 , 马忠权

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.04.015

采用Verilog硬件描述语言设计了用于USB2.0设备控制中的端点控制器.端点数可由用户配置最多达16个.支持8位/16位USB接口,并支持8位/16位/32位AHB或8051接口以及32位的DMA接口.该端点控制器采用180nm CMOS工艺进行流片,所有功能均通过了测试.

关键词: USB2.0 , 端点控制器 , Verilog硬件描述语言 , CMOS

太阳电池窗口层材料Sc掺杂ZnO薄膜的抗腐蚀性研究

马晓敏 , 赵占霞 , 宋晨辰 , 赵磊 , 马忠权

人工晶体学报

用于太阳电池窗口层的材料必须具有好的耐蚀性.利用射频磁控溅射的方法分别在300℃、350℃、400℃、450℃的沉积温度下制备透明导电Sc掺杂ZnO薄膜(SZO).用X射线衍射仪对样品的结构进行表征.结果表明,所有SZO薄膜均为六角纤锌矿结构,在(002)衍射峰位上相对于纯ZnO粉末有微小的偏移.用动电位扫描极化曲线和交流阻抗谱表征SZO薄膜的耐腐蚀性能,研究结果表明随沉积温度的升高,SZO薄膜的耐腐蚀性增强.在可见光范围内SZO薄膜透过率达85%以上,经3.5%的NaCl溶液腐蚀24h后薄膜透过率仍在80%以上.

关键词: 太阳电池 , 掺杂ZnO薄膜 , 抗腐蚀性能 , 透过率

沉积压强对Sc掺杂ZnO薄膜性能的影响

缪存星 , 赵占霞 , 栗敏 , 徐飞 , 马忠权

人工晶体学报

利用射频磁控溅射方法,采用Sc_2O_3掺杂(质量百分比2%)ZnO为靶材在石英玻璃上制备透明导电ZnO:Sc(SZO)薄膜.用X射线衍射仪、分光光度计及霍尔测试仪等对样品进行表征,分析了沉积压强从0.3 Pa到2.0 Pa的变化对SZO薄膜的微结构及光学特性的影响.XRD研究结果表明所有样品都是六角密堆积结构,而且溅射压强对SZO薄膜的微结构有着显著的影响.所有SZO薄膜的透过率在可见光区域均大于85%,近紫外区域由于吸收,透射率大大降低.

关键词: 射频磁控溅射 , SZO薄膜 , 溅射压强 , 透明导电氧化物

射频溅射法制备的纳米硅薄膜的能带结构和Ⅰ-Ⅴ特性

赵占霞 , 栗敏 , 詹颜 , 王德明 , 马忠权 , 孙铁囤

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.03.017

用高频溅射法在P型硅衬底上生长了纳米硅薄膜,衬底温度控制在95℃左右,工作气体选用H2+Ar,氢气的分压控制在31%到70%,同时改变薄膜的沉积时间.Tauc曲线显示出用射频溅射法制备的薄膜是一种宽带隙材料.结合实验数据,在HQD理论基础上,给出了这种薄膜的能带结构图,并在理论和实验上分别对薄膜的Ⅰ-Ⅴ特性进行了研究.

关键词: 纳米硅薄膜 , RF溅射 , Ⅰ-Ⅴ曲线 , 能带模型

长度可调的TiO2纳米管制备及其DSSC性能的研究

沈成 , 杨洁 , 沈玲 , 马忠权

功能材料

采用阳极氧化法在Ti片上制备高度取向的TiO2纳米管阵列.室温下,电压60V,在含有0.5%(质量分数)NH4F,1%(体积分数)HF,2%(体积分数)H2O的乙二醇电解液中,通过改变阳极氧化时间(8~20h),反应制得管长约为6.7~19.5μm,管径约为90~110nm,管壁约为20nm的TiO2纳米管阵列.利用SEM、TEM、EDS对TiO2纳米管的形貌和化学组分进行表征.采用XRD、SAED证实TiO2纳米管阵列的结构.分析不同长度纳米管阵列紫外-可见光反射率曲线,发现较长的纳米管对可见光有更强的吸收能力.将不同长度的纳米管阵列封装成染料敏化电池(DSSC),研究纳米管长度对电池性能参数的影响.

关键词: 阳极氧化 , TiO2纳米管阵列 , 染料敏化电池

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