雍帆
,
付传起
,
骆旭梁
,
王宙
,
姚井龙
,
郑学仿
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.12.016
目的 采用材料测试方法和防垢实验,研究不同工艺条件下的化学镀Ni-Mo-P合金镀层的组织结构与防垢性能. 方法 在化学镀Ni-P镀层基底上,添加含有钼酸根离子杂多酸盐,在不同工艺条件下化学沉积Ni-Mo-P合金镀层,研究化学镀Ni-Mo-P合金镀层的表面形貌和组织结构,分析镀液中硼酸含量和钼酸铵含量对镀层沉积速率的影响,观测镀层在结垢实验后的表面形貌并分析结垢速率. 通过SEM,XRD和EDS对化学镀Ni-Mo-P合金镀层的表面形貌和组织结构进行检测,研究在酸性镀液中硼酸含量对化学镀Ni-Mo-P工艺条件的影响. 采用防垢实验测试化学镀Ni-Mo-P合金镀层的防垢性能. 结果 在化学镀Ni-Mo-P过程中,钼酸根离子杂多酸盐具有稳定作用. 化学镀Ni-Mo-P合金镀层的化学沉积镀液的最佳工艺条件为:NiSO4 ·6H2 O 16. 5 g/L,NaH2 PO2 ·H2 O 20 g/L,钼酸钠0. 5~0. 8 g/L,硼酸2 g/L,乙酸钠7. 5 g/L. 化学镀Ni-Mo-P合金镀层的结垢速率明显低于化学镀Ni-P镀层,具有良好的防垢能力,形成了非晶态的镀层. 结论 采用化学镀Ni-P镀层基底上沉积得到非晶态的Ni-Mo-P合金镀层,硼酸具有调节镀液pH值和络合作用,非晶态的Ni-Mo-P合金镀层平均结垢速率最小值为0. 58 μm/h,具有良好的阻垢能力.
关键词:
化学镀Ni-Mo-P
,
组织结构
,
非晶态
,
防垢性能
,
硼酸
,
沉积速率
张庆乐
,
付传起
,
雍帆
,
骆旭梁
,
王宙
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.01.030
采用化学镀的方法在45＃碳钢试样表面制备了四硼酸钠(硼砂)促进 Ni-P 沉积的非晶镀层.利用扫描电子显微镜和 X 射线观察及分析了镀层的表面形貌与表面结构，研究了四硼酸钠的浓度对非晶镀层的表面形貌、沉积速率、P 含量、孔隙率以及耐蚀性能的影响.结果表明，添加一定量的四硼酸钠能使镀层晶粒更加细化，分布更为均匀，镀层的沉积速率有很大的提高.随着四硼酸钠含量的增加，沉积速率逐渐升高，而镀层中的磷含量逐渐降低.当四硼酸钠的含量超过2．5 g/L时，镀液的稳定性会大大的降低；镀速达到最大值21．35μm/h；磷含量最低为14．3％.四硼酸钠的加入对镀层的耐蚀性影响不大，但可以提高沉积速率从而提高镀层的使用周期，具有很好的经济效益和使用价值.
关键词:
化学镀 Ni-P 非晶镀层
,
四硼酸钠
,
耐蚀性
,
镀速
骆旭梁
,
王思源
,
王宙
,
雍帆
,
付传起
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.02.013
采用真空蒸镀的方法制备磷掺杂多晶硅薄膜,研究了磷含量对多晶硅薄膜的表面形貌、组织结构、晶粒尺寸及晶化率的影响.结果表明:随着磷掺杂分数的增加,多晶硅薄膜的晶粒尺寸和晶化率表现出先增加后降低的趋势,当磷掺杂分数为1％时,薄膜晶粒尺寸达到最大值,为0.55 μm,晶化率为96.82％,且晶粒的均匀性最佳.
关键词:
真空蒸镀
,
多晶硅薄膜
,
磷掺杂
,
晶化率
