王向晖
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张峰
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李昌荣
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郑志宏
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陈莉芝
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王惠民
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柳襄怀
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.01.012
采用离子束增强沉积的方法，改变氧分压，在硅基体表面制备出了不同组分及不同取向的氧化钛薄膜。采用XRD，掠角衍射以及XPS分析方法对薄膜的成分、结构和取向进行了分析，并通过RBS分析计算出了薄膜的O/Ti比。实验结果发现，所制备的氧化钛薄膜为具有一定择优取向的多晶膜，薄膜内TiO、Ti2O3和TiO2共同存在。当氧分压低于8.4×10－4Pa时，氧化钛薄膜的成分以TiO为主，且TiO的取向随氧分压的增加从（220）向（031）转变，氧分压对薄膜取向的影响较大。当氧分压高于8.6×10－4Pa时，氧化钛薄膜的成分以具有（100）择优取向的金红石型TiO2为主，含有少量其他结构的TiO2和低价Ti，其成分及取向相对较为稳定，对氧分压的变化不敏感。
关键词:
氧化钛
,
离子束增强沉积
,
氧分压
