李锦
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郑毓峰
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徐金宝
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孙严飞
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陈树义
功能材料
采用真空热蒸发VE、射频溅射沉积RF和近距离升华CSS技术制备CdTe薄膜,并对其进行掺杂研究.样品利用XRD、SEM、紫外-可见分光光度计和霍尔系数测量系统进行测试.结果显示,CSS制备的CdTe薄膜与VE和RF法制备的薄膜相比,晶粒大,晶形好.适当的掺杂某些元素,适当的掺杂量,可以改善CdTe薄膜的结晶性能,提高其导电性能.掺杂对CdTe薄膜的光能隙影响不大.
关键词:
CdTe薄膜
,
制备
,
掺杂
李锦
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郑毓峰
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戴康
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徐金宝
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陈树义
无机材料学报
采用近距离升华(Close-Spaced-Sublimation,CSS)技术制备CdTe及掺Te薄膜.并利用XRF、XRD、SEM及Hall系统研究了其含量、结构、表面形貌和电性能.结果表明,CSS技术制备的CdTe薄膜晶形好,晶粒度较RF方法制备的薄膜增大约100倍.Te掺入CdTe薄膜后,改变了CdTe膜的结晶特性,适当掺入Te可以促进CdTe晶格的生长,并导致Cdrre膜晶格常数变大.薄膜面电阻率降低,面载流子浓度增大,以及载流子迁移率的增大,表明掺杂Te后CdTe膜的电导性能大大改善.
关键词:
近距离升华(CSS)技术
,
CdTe thin films
李锦
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郑毓峰
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戴康
,
徐金宝
,
陈树义
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2003.01.031
采用近距离升华(Close-Spaced-Sublimation,CSS)技术制备CdTe及掺Te薄膜.并利用XRF、XRD、SEM及Hall系统研究了其含量、结构、表面形貌和电性能.结果表明,CSS技术制备的CdTe薄膜晶形好,晶粒度较RF方法制备的薄膜增大约100倍.Te掺入CdTe薄膜后,改变了CdTe膜的结晶特性,适当掺入Te可以促进CdTe晶格的生长,并导致CdTe膜晶格常数变大.薄膜面电阻率降低,面载流子浓度增大,以及载流子迁移率的增大,表明掺杂Te后CdTe膜的电导性能大大改善.
关键词:
近距离升华(CSS)技术
,
CdTe薄膜