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CdZnTe材料(111)B和(211)B面上位错腐蚀坑密度的差异

顾惠明 , 杨建荣 , 陈新强 , 何力

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.1999.02.012

用Everson腐蚀剂对CdZnTe晶体(111)B和(211)B面上的位错进行了腐蚀和观察,发现(111)B面上的腐蚀坑密度(EPD)值明显高于(211)B面上的EPD值,(111)B面上的EPD值与双晶衍射半峰宽有明显的依赖关系,(111)B面上的FWHM值随EPD的增加而增加.而(211)B面上的EPD则与材料的双晶衍射半峰宽无关.研究结果表明,用Everson腐蚀剂得到的EPD参数依赖于材料的晶体取向,在两种常用的晶体学取向中,(111)B面上得到的EPD能较为正确的反映CdZnTe材料中的位错密度.

关键词: CdZnTe , 位错 , 腐蚀法 , 布里奇曼法 , 衬底材料

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