赵立新
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彭鸿雁
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陈玉强
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罗玉杰
,
陈宝玲
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徐闰
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黄健
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王林军
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夏义本
,
金曾孙
新型炭材料
采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的影响.结果表明:氢等离子体处理后,类金刚石膜的场发射性能明显提高,其发射阈值电场由26 V/μm下降到19 V/μm.氢等离子体刻蚀除去了类金刚石膜生长表面的富含石墨的薄层,露出的新表面具有较低的功函数;膜表面的悬键被氢原子饱和,进一步降低了电子亲和势,改善了膜的场发射性能.
关键词:
类金刚石膜
,
氢等离子体处理
,
场发射
赵立新
,
彭鸿雁
,
陈玉强
,
陈宝玲
,
徐闰
,
黄健
,
王林军
,
夏义本
,
王惟彪
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.05.018
采用大功率高重复频率准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了激光功率密度和重复频率对类金刚石膜的结构及场发射性能的影响.保持重复频率不变,提高激光功率密度可提高膜中sp3键碳的含量和膜的场发射性能;在最佳激光功率密度下,当重复频率由200 Hz提高到500 Hz,膜中sp3键碳的含量和膜的场发射性能先提高,后降低,在300 Hz时达到最佳.在300 Hz重复频率、1010W/cm2激光功率密度下.膜的发射阈值电场为26 V/μm,在34 V/μm的电场下测得电流密度为14μA/cm2.根据类金刚石膜的场发射机理对上述结果进行了分析解释.
关键词:
脉冲激光沉积
,
类金刚石膜
,
场发射
