叶甜春
,
谢常青
,
李兵
,
陈大鹏
,
陈朝晖
,
赵玲莉
,
胥兴才
,
刘训春
,
张绵
,
赵静
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.013
对同步辐射X射线光刻及在GaAsPHEMT器件制作中的应用进行了研究,并制作出栅长0.15μm的AlGaAs/InGaAs/GaAsPHEMT晶体管.研究结果表明,X射线光刻在剥离图形及T型栅结构制作工艺中具有极好的光刻图形质量,在混合光刻工艺中,抑止GaAs合金点的形成是取得良好对准标记的关键.
关键词:
X射线光刻
,
PHEMT
,
T型栅
刘瑞文
,
焦斌斌
,
欧毅
,
陈大鹏
功能材料
研究了一种可抗高温强碱溶液腐蚀的氮化硅薄膜的等离子增强化学气相淀积(PECVD)生长工艺.通过X射线光电子能谱(XPS)、椭圆偏振仪、湿法腐蚀等手段分析了所生长薄膜的元素含量、折射率、抗腐蚀特性等性质随淀积工艺条件的改变所产生的变化.制备出的氮化硅薄膜可在高温强碱溶液(70℃、33.3% KOH溶液)中支撑12h而无明显变化,并实现自支撑全镂空薄膜.
关键词:
等离子增强化学气相淀积(PECVD)
,
SiNx薄膜
,
湿法腐蚀
彭巨擘
,
张鹏翔
,
陈大鹏
,
张虞澜
,
朱绍将
,
王茺
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2003.05.028
研究了PLD系统中用硅板做衬底加热器时影响衬底温度的几个因素.通过使用校准了的红外测温仪做温度检测元件,发现:1.硅板上各部分的温度不是均匀分布的;2.衬底放在硅板上时,衬底温度和硅板温度有很大的不同;3.在相同的硅板加热电流下,硅板温度随硅板环境的真空度不同而变化.不细致考虑上述因素时,脉冲激光沉积(PLD)镀膜的质量很难保证.
关键词:
PLD
,
硅板加热器
,
衬底
,
真空度
李东辉
,
刘志凌
,
叶甜春
,
陈大鹏
,
吕反修
无机材料学报
介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度,改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响,获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制了核岛的优势生长,总结出了一套优化的形核方案,即甲烷浓度4％,衬底温度700℃,形核时间14min;这套工艺不仅改善了自支撑金刚石薄膜窗口的光学性能,还有效地降低了膜的内应力。
关键词:
成核
,
diamond film
,
MPCVD
,
X-ray lithography .mask
李东辉
,
刘志凌
,
叶甜春
,
陈大鹏
,
吕反修
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.04.030
介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度、改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响, 获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制了核岛的优势生长,总结出了一套优化的形核方案,即甲烷浓度4%,衬底温度700℃,形核时间14min;这套工艺不仅改善了自支撑金刚石薄膜窗口的光学性能,还有效地降低了膜的内应力.
关键词:
成核
,
金刚石薄膜
,
MPCVD
,
X射线光刻掩模
陈庆发
,
陈青林
,
仲建宇
,
陈大鹏
,
李诗华
,
牛文静
中国有色金属学报
采用Origin软件对隔离层界面形态演化观测数据进行拟合,并对高斯模型参数进行理论分析和统计分析,构建隔离层界面剖面整体动态函数表达式;将实测隔离层界面形态曲线与动态函数式进行比较,在力学分析基础上,推导底部类似抛物线形状的函数表达式,解出函数分界点坐标.两项函数式共同构成完整的隔离层界面形态数学模型.研究成果为柔性隔离层作用下散体介质流理论体系的系统构建打下坚实基础.
关键词:
放矿
,
单漏斗
,
柔性隔离层
,
界面形态
,
演化规律
,
高斯模型
