张玉娟
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吴志国
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张伟伟
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李鑫
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阎鹏勋
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刘维民
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薛群基
中国有色金属学报
在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响.对薄膜的表面形貌进行观察,用(θ～2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究.结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20～70 nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜平面也发生了定向排列.
关键词:
氮化钛
,
磁过滤等离子体
,
薄膜织构
黎明
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刘雅超
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郭慧尔
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闫志巾
,
吕惠民
,
阎鹏勋
中国材料进展
约束弧等离子体电弧法用等离子体高温热源激发高能粒子的化学反应，并与骤冷技术结合构成一个制备金属纳米粉体或化合物纳米粉末材料的等离子体过程，能极好地制备高溶点（例：Ni，Fe，C等）或低溶点（例：Al，Zn等）的纳米粉末，是当前极具工业化生产应用前景的方法之一。用约束弧等离子体电弧法制备了纳米Zn粉末，用XRD，TEM，TG，DTA技术研究了纳米Zn粉末的结构、晶粒大小、晶粒形貌和热稳定性。结果表明，该粉体平均粒径小于42nm，晶粒形貌为带状，热稳定性好。此外该粉体具有高比表面积，可用作化学反应的催化剂。
关键词:
Zn纳米颗粒
,
约束弧等离子体电弧法
,
晶粒形貌
许世红
,
王金清
,
刘维民
,
阎鹏勋
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.12.004
采用直流磁控溅射技术在GCr15轴承钢底材上沉积了钼薄膜.利用XRD,AFM对不同负偏压下沉积的钼薄膜的结构和表面形貌进行了表征;利用纳米压痕仪对薄膜的硬度和膜基结合强度进行了测定;最后利用DF-PM型动静摩擦系数精密测定仪和扫描电镜(SEM)研究了薄膜的硬度、残余模量与负偏压的关系.结果表明:利用直流磁控溅射法制备的钼薄膜的硬度随负偏压的变化存在最大值,另外负偏压还影响薄膜的微结构、粗糙度以及膜基结合力,但负偏压的改变对钼薄膜的摩擦系数影响不大.
关键词:
摩擦学
,
钼薄膜
,
薄膜硬度
,
微结构
,
纳米压入
,
直流磁控溅射
张玉娟
,
吴志国
,
阎鹏勋
,
薛群基
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.03.009
在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了TiN薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响.结果表明,用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50～80 nm;随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向随着偏压的提高,薄膜的颗粒度稍有增大,摩擦系数增大,偏压提高,晶面在较密排的(111)面有强烈的择优取向,硬度也有所增大.在其它条件相同的情况下载荷越大,摩擦系数越大.不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数(0.14～0.25).
关键词:
无机非金属材料
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氮化钛
,
磁过滤等离子体
,
纳米薄膜
,
摩擦学
