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溶剂熔区移动法制备Cd0.9Zn0.1Te晶体及性能研究

时彬彬 , 闵嘉华 , 梁小燕 , 张继军 , 王林军 , 邢晓兵 , 段磊 , 孟华 , 杨升

人工晶体学报

用溶剂熔区移动法制备了掺In的Cd0.9Zn01Te晶体,晶体生长温度800℃,温度梯度为20℃/cm,生长速度0.4 mm/h.测试了晶体的Te夹杂情况、红外透过率图谱、Ⅰ~Ⅴ特性曲线和PICTS特性,并以1115℃下用VB法生长的掺In的Cd0.9Zn0.1Te晶体做为参照,对比了两者性能.结果表明,溶剂熔区移动法制备的晶体Te夹杂的密度和体积百分比比VB法晶片低,但是Te夹杂的尺寸要比VB法晶体大;溶剂熔区移动法晶体的红外透过率比VB法晶体高;溶剂熔区移动法晶体电阻率比VB法晶体高了一个数量级;PICTS测试发现,溶剂熔区移动法晶体内主要的缺陷密度低于VB法晶体.

关键词: 溶剂熔区移动法 , Cd0.9Zn0.1Te , 红外透过率 , PICTS

Cd1-xZnx合金组元分压控制下高阻CdZnTe晶体的熔体生长

杨炬 , 桑文斌 , 钱永彪 , 史伟民 , 王林军 , 刘冬华 , 闵嘉华 , 李志峰 , 苏宇

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.1999.04.004

本文运用热力学关系估算了CdZnTe熔体平衡分压.尝试以Cd1-xZnx合金源替代Cd源控制Cd分压和Zn分压进行了Cd 0.8Zn 0.2Te晶体熔体生长,探讨了熔体分压与晶体电阻率的关系.获得的Cd 0.8Zn 0.2Te晶体的电阻率接近1010Ω·cm,高于同类方法文献报道1~2个数量级.晶体的结构完整性较好,平均腐蚀坑密度(EPD)为2×105cm-2,纵向组成分布偏离度在4%左右,红外透过率大于60%,晶体中第二相和沉淀物明显减少,优于仅采用Cd分压控制的Cd0.8Zn0.2Te晶体.

关键词: CdZnTe晶体 , 布里奇曼法 , CdZnTe熔体平衡分压 , γ探测器

降温速率对CdZnTe晶体内Te夹杂相的影响

张涛 , 闵嘉华 , 梁小燕 , 滕家琪 , 时彬彬 , 杨升 , 张继军 , 王林军

稀有金属材料与工程

采用改进的垂直布里奇曼生长法生长CdZnTe (CZT)单晶.生长完成后,选取了10~60 K/h不同速率降温处理.采用红外透射显微镜和多道能谱仪分别测试不同降温速率的晶片内部Te夹杂相分布和能谱响应.结果表明,10~30K/h之间的慢速降温会导致晶体内部出现较大尺寸的Te夹杂(>10 μ.m),40 K/h以上的快速降温所得到的晶体内部主要以小尺寸<10 μm)为主.同时快速降温会导致晶体内部的Te夹杂浓度大量增加,并且降温速率越快,Te夹杂浓度越大.此外,降温速率过慢所得到晶片的能谱分辨率较差,但是降温速率过快也会影响到晶片的性能.40 K/h的降温速率所得到的晶片能谱性能较好,实验结果表明:大尺寸或者高浓度的Te夹杂都不利于能谱响应,保留一定浓度的小尺寸Te夹杂的晶体能谱性能较佳.

关键词: Te夹杂相 , 降温速率 , CdZnTe

CdZnTe共面栅探测器的电子俘获修正方法

闵嘉华 , 桑文斌 , 钱永彪 , 王昆黍 , 刘洪涛 , 詹峰 , 秦凯丰 , 樊建荣

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.05.013

采用有限元方法模拟共面栅探测器的权重势分布,通过计算器件的电荷感应效率(CIE)以及感应信号,研究了CdZnTe共面栅器件的电子俘获修正技术,结果表明采用调整两组栅极输出信号的相对增益G的方法,可以有效地修正由于电子俘获造成的器件响应在深度上的不均匀;通过将次外条收集栅和非收集栅分别加宽一倍可以使两组栅电极的权重势分布在器件宽度上具有良好的均匀性,在此基础上采用调整增益G值来修正电子俘获,可使CdZnTe共面栅器件在深度和宽度方向上均得到均匀的响应特性.

关键词: CZT共面栅器件 , 权重势 , 电子俘获 , 电荷感应效率

p型CdZnTe晶体(111)B面的Au/Zn复合电极的制备和研究

杨升 , 闵嘉华 , 梁小燕 , 张继军 , 邢晓兵 , 段磊 , 时彬彬 , 孟华

人工晶体学报

通过对p型CdZnTe(111)面的结构分析,用真空蒸发法在p型CdZnTe晶体(111)面制备出Au/Zn复合电极,运用金相显微镜、AFM测试、SEM剖面观察、EDS成分分析、Ⅰ-Ⅴ特性测试及势垒高度计算等多种手段研究了Au/Zn复合电极对金属和半导体接触性能的影响.结果表明,在P型CdZnTe(111)A面蒸镀Au电极,在B面蒸镀Au/Zn复合电极时获得的势垒高度最低,有效减小了富Te面对金半接触的影响.Au/Zn复合电极能获得比Au电极更理想的接触性能.

关键词: CdZnTe , 复合电级 , 金半接触 , 势垒高度

碲锌镉晶片机械研磨和机械抛光工艺研究

彭兰 , 王林军 , 闵嘉华 , 张继军 , 陈军 , 梁小燕 , 严晓林 , 夏义本

功能材料

研究了碲锌镉(CZT)晶片表面的机械研磨和机械抛光工艺.采用不同粒度的Al2O3磨料对CZT晶体表面进行机械研磨和机械抛光,并研究了工艺参数变化对CZT晶体表面质量、粗糙度、研磨速度和抛光速度的影响.结果表明,机械研磨采用粒度2.5μm的Al2O3磨料,最佳的研磨压力和研磨盘转速分别为120g/cm.和75r/min,研磨速度为1μm/min;机械抛光采用粒度0.5μm的Al2O3抛光液,最佳的抛光液浓度为6.5%(质量分数),抛光速度为0.28μm/min.AFM测试得到机械研磨后晶片表面粗糙度Ra值为13.83nm,机械抛光4h后,Ra降低到4.22nm.

关键词: 碲锌镉 , 机械研磨 , 机械抛光 , 研抛速度 , 粗糙度

高分子凝胶法蓝色发光ZnS微晶的制备及形成机理

陈宗高 , 李冬梅 , 桑文斌 , 闵嘉华 , 王灵玲 , 徐慧超 , 陈建明 , 毛日华

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2001.04.005

本研究采用高分子凝胶法在聚乙烯醇基体上制备了ZnS微晶.常温下,采用金相显微镜、X射线衍射仪及荧光分光光度计对样品进行了表征.结果表明,PVA膜中的微晶分布均匀,粒径大小为0.2~1μm.微晶具有明显的立方相结构,衍射峰有宽化现象.发现PL光谱的激发峰与发射峰都为双峰结构,发射最高峰在440nm处,半高宽为50nm左右.在紫外灯照射下,肉眼观看该薄膜样品,发出耀眼的蓝光.探讨了微晶在聚乙烯醇稳定剂中的形成机理,聚乙烯醇在体系中起着包覆、稳定及表面修饰作用.

关键词: 高分子 , 凝胶法 , 硫化锌微晶 , 蓝光

Au-CZT与Au/Cr-CZT接触性能比较

梁小燕 , 闵嘉华 , 赵岳 , 王长君 , 桑文斌 , 秦凯丰 , 胡冬妮 , 周晨莹

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.01.001

本文通过附着力测试,应力模拟和IV特性及多道能谱分析对Au-CZT与Au/Cr-CZT接触进行研究.结果表明采用Au/Cr复合电极可提高电极附着强度和热稳定性.在老化实验中,Au-CZT界面附着力下降了61.98%,而Au/Cr-CZT仅降低28%.Au/Cr电极器件的漏电流较低,~(241)Am射线下能谱响应更佳.分析其原因可能是Au与CZT间的Cr层降低了接触层内的热应力,合金化过程促进了金-半界面的互扩散,使Au和CZT更易形成欧姆接触,综合考虑Au/Cr复合电极能获得比Au电极更理想的接触性能.

关键词: 复合电极 , 金半接触 , 应力模拟分析 , CZT探测器

温度梯度溶液生长法制备x=0.2的Cd_(1-x)Zn_xTe晶体及性能研究

王东 , 闵嘉华 , 梁小燕 , 孙孝翔 , 刘伟伟 , 李辉 , 张继军 , 王林军

功能材料

利用温度梯度溶液生长法(TGSG)在较低生长温度下制备了掺Al和掺In的x=0.2的Cd1-xZnxTe晶体,晶体起始生长温度约为1223K,温度梯度为20~30K/cm,坩埚的下降速度为1mm/h。采用红外显微镜、傅里叶红外光谱仪、扫描电镜能谱仪(SEM/EDS)和I-V测试分别研究了晶体中的Te夹杂相、红外透过率、Zn组分分布和电阻率。结果显示CdZnTe晶锭初始生长区、稳定生长区的Te夹杂相密度分别为8.3×103、9.2×103/cm-2,比垂直布里奇曼法生长的晶体低约1个数量级,红外透过率分别为61%、60%。Al掺杂CdZnTe晶体的电阻率为1.05×106Ω.cm,而In掺杂CdZnTe晶体的电阻率为7.85×109Ω.cm。晶锭初始生长区和稳定生长区的Zn组分径向分布均匀。

关键词: 碲锌镉 , 温度梯度溶液生长法 , 红外透过率 , Te夹杂

PICTS测试CdZnTe晶体中深能级缺陷

滕家琪 , 闵嘉华 , 梁小燕 , 周捷 , 张涛 , 时彬彬 , 杨升 , 曾李骄开

人工晶体学报

详细阐述了光生电流瞬态谱(PICTS)的原理、结构和搭建过程,其中搭建过程中采用的激光器波长为730nm,功率为50 mW,测试温度范围在液氮温度至常温之间.利用低压垂直布里奇曼法制备了掺In的CdZnTe晶体样品,采用PICTS研究了样品中的主要缺陷能级,确定了能级位置在0.471 eV和0.15 eV的两个深中心,这两个缺陷分别可能是VCd2-和A中心(InCd+-VCd2-)-.

关键词: PICTS , CdZnTe , 深能级 , 缺陷

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