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基片偏压改变对镁合金Ti/TiN膜质量的影响

李忠厚 , 宫学博 , 郭腾腾 , 马芹芹 , 杨迪

表面技术

目的:探讨基片偏压对镁合金Ti/TiN膜层质量的影响。方法利用多弧离子镀技术,在不同偏压条件下,对镁合金先镀Ti再镀TiN,通过SEM观察膜层形貌,通过划痕测定膜基结合性能,通过电化学工作站对比AZ31镁合金与不同偏压镀膜试样的耐蚀性。结果偏压为200 V时,TiN膜层致密均匀且成膜速度快,膜层耐蚀性最好;偏压为200 V时,基体结合最好且膜层较厚,有较好的耐蚀性。结论镀Ti 膜时的偏压对随后镀TiN的质量有着显著的影响,以200 V偏压的工艺镀TiN膜层质量最好,膜层致密,成膜速度快,耐蚀性优良。

关键词: 镁合金AZ31 , 偏压 , 多弧离子镀 , Ti/TiN膜层质量

磁控溅射镀钛提高AZ31镁合金耐磨耐蚀性能的研究

李忠厚 , 郭腾腾 , 宫学博 , 马芹芹 , 杨迪

表面技术

目的提高AZ31镁合金的耐磨及耐腐蚀性能。方法采用磁控溅射技术对镁合金进行表面镀钛处理,用扫描电镜研究膜基界面形貌及界面成分,分析结合性能。通过摩擦磨损试验,对比分析镁合金基体和镀Ti膜样品的耐磨性能;通过Tafel极化曲线,对比分析镁合金基体和镀Ti膜样品的耐蚀性能。结果Ti膜均匀致密,与镁合金基体结合良好。镁合金镀Ti膜后,摩擦系数和磨损失重率下降,腐蚀电位向正方向移动了430 mV,腐蚀电流密度从10.83 mA/cm2下降到2.62×10-7 mA/cm2。结论磁控溅射镀Ti膜提高了AZ31镁合金的耐磨和耐蚀性能。

关键词: AZ31镁合金 , 磁控溅射 , 镀钛 , 耐磨性 , 耐蚀性

预镀Ti膜对AZ31镁合金表面多弧离子镀TiN膜耐磨、耐蚀性的影响

李忠厚 , 马芹芹 , 杨迪 , 宫学博 , 郭腾腾

材料保护

为了提高软基体镁合金表面TiN膜的性能,对AZ31镁合金多孤离子预镀Ti后再镀TiN,并与直接镀TiN的膜层进行对比,研究了预镀Ti膜对TiN膜层结合力、耐磨、耐蚀等性能的影响.结果表明:预镀Ti膜使得镀TiN后膜层更致密,膜基结合力、耐磨性、耐蚀性都获得很大提高.

关键词: 多弧离子镀 , 预镀Ti膜 , TiN膜 , AZ31镁合金 , 耐磨性 , 耐蚀性

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