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双栅无结晶体管的击穿性能研究

王超 , 李悦 , 郭羽涵 , 李曼 , 郭宇锋

功能材料与器件学报

本文利用二维仿真器Medici对双栅无结晶体管的击穿特性进行模拟仿真,通过分析发生击穿时的电场分布和碰撞电离率积分,并结合碰撞电离理论,证明了双栅无结晶体管的击穿机理仍然是雪崩击穿.进一步通过分析沟道长度、沟道杂质掺杂浓度、栅极电压等参数对击穿电压的影响,研究双栅无结晶体管的击穿特性.结果表明双栅无结晶体管的击穿电压随着沟道长度和沟道掺杂浓度的增加线性增大,相反地,双栅无结晶体管的击穿电压随栅极电压的增加而略微减小.

关键词: 双栅无结晶体管 , 击穿电压 , 电场分布

SOI LDMOS器件纵向耐压技术的研究进展

徐光明 , 郭宇锋 , 花婷婷 , 徐跃 , 吉新春

功能材料与器件学报

SOI LDMOS是SOI高压集成电路的核心器件,而纵向击穿电压是制约其性能的关键.本文首先指出了常规SOI LDMOS纵向耐压低的原因;然后介绍了SOI高压器件纵向耐压理论,分析了该理论中三种改善SOI器件纵向耐压技术(超薄SOI技术、界面电荷技术、低k介质层技术)的工作原理;而后基于这三种技术,对近年来国内外在SOI纵向耐压方面所做的工作进行了分类和总结,分析了各自的优缺点;最后对未来技术的发展进行了展望.

关键词: LDMOS , 超薄SOI , 界面电荷 , 低k介质 , 纵向耐压

纳米器件阈值电压提取方法

杨慧 , 郭宇锋 , 洪洋

功能材料与器件学报

阈值电压是MOSFET最重要的电学参数,它在器件模拟和电路设计方面起着举足轻重的作用.本文分析总结了目前比较常用的阈值电压的提取方法,分别利用它们提取了FinFET和JLT不同沟道长度的阈值电压,讨论了这些方法在提取两种现代MOS器件阈值电压时的有效性和局限性.

关键词: 阈值电压提取 , FinFET , Junctionless Transistor

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