王琪
,
郝影娟
,
陈爱平
,
杨意泉
催化学报
doi:10.3724/SP.J.1088.2010.90948
在不同焙烧温度和焙烧气氛下对共浸渍法制备的K_2MoO_4-NiO/SiO_2催化剂进行热处理,并采用X射线衍射、热重-差示扫描量热、氢气程序升温还原、拉曼光谱和电子白旋共振波谱等手段对催化剂进行了表征,同时考察了催化剂催化高硫化氧合成气一步法制甲硫醇的性能.结果表明,由于催化剂中所含柠檬酸氧化放热,空气中焙烧的催化剂发生严重烧结.随着焙烧温度的升高,八面体配位的Mo(O_h)逐渐向四面体配化的Mo(T_d)转变,导致催化剂的还原能力降低,配位不饱和Mo(CO吸附位)减少,因而CO转化率降低.甲硫醇的生成与Mo-S-K相密切相关,而MoS_2晶相表面主要生成烃类.与氮气中焙烧的催化剂相比,空气中焙烧的催化剂表面的MoS_2相较多,而Mo-S-K相较少,因此具有更高的烃类选择性和更低的甲硫醇选择性.
关键词:
销镍基催化剂
,
焙烧
,
一步合成法
,
硫化氢
,
合成气
,
甲硫醇
王琪
,
郝影娟
,
陈爱平
,
姚光华
,
杨意泉
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.05.016
采用XRD和TPR测试技术表征了一系列不同K与Mo摩尔比的MoO3/K2O/SiO2催化剂.XRD表征结果显示,随着元素K的加入,多钼物种逐渐被破坏,最终形成了单钼的K2MoO4物种.TPR表征显示,催化剂表面的钼物种有2种结构,即八面体的Mo(Oh)和四面体的Mo(Td).八面体Mo(Oh)的还原峰在770 K附近,而四面体Mo(Td)还原峰在1 000 K附近;无K的MoO3/SiO2催化剂的低温还原峰出现在840 K,少量元素K的添加削弱了Mo与SiO2之间的作用,使得低温还原峰温度降低到770 K附近;随着元素K添加量的进一步增加,Mo(Oh)物种逐渐减少而Mo(Td)物种逐渐增多,从而使得催化剂表面的Mo更难被还原.高硫合成气制甲硫醇的活性随着钼基催化剂八面体(Oh)钼物种的增加而增加.
关键词:
MoO3/K2O/SiO2催化剂
,
XRD
,
TPR
,
高硫合成气
,
甲硫醇
