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离子钨钼共渗的表观过程

李成明 , 赵晋香 , 田林海 , 王建明 , 徐重 , 郑维能

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.01.013

研究了双层辉光离子钨钼共渗在离子轰击条件下形成渗层和无离子轰击时形成沉积层的表观过程.结果表明,在形成沉积层时,由于离子轰击作用已不存在,使渗层厚度减少26%, 用朗缪尔探针对双层辉光离子钨钼共渗过程进行了等离子体的诊断, 等离子体对表面成分有较大影响.合理的等离子体密度范围为5×1011~3×1012cm-3.

关键词: 离子轰击 , 渗层厚度 , 表面成分 , 等离子体密度

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