郑树凯
,
吴国浩
,
张俊英
,
康健楠
,
王芳
,
赵瑞
,
刘素平
,
刘磊
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2014.01.013
利用射频磁控溅射技术在载玻片衬底上成功沉积了TiO2薄膜,采用离子注入技术对所制备的TiO2薄膜进行了Sn元素的注入掺杂.在可见光的照射下,以亚甲基蓝染料为降解污染物,考察了Sn注入前后TiO2薄膜的光催化活性.结果表明,Sn离子注入增强了TiO2薄膜在可见光下的光催化活性.利用基于密度泛函理论的第一性原理方法对Sn掺杂前后TiO2的能带结构进行了计算,发现Sn掺杂并未明显改变锐钛矿相TiO2的能带结构,但是却在TiO2的价带底附近引入了由Sn 5s轨道形成的掺杂能级.
关键词:
TiO2薄膜
,
光催化
,
能带结构
刘利
,
马蕾
,
吴一
,
范志东
,
郑树凯
,
刘磊
,
彭英才
人工晶体学报
采用常规射频等离子体增强化学气相沉积方法,以高氢稀释的SiH4为源气体和以PH3为掺杂剂,制备了磷掺杂的氢化纳米晶硅薄膜.结果表明,薄膜的生长速率随PH3/SiH4流量比(Cp)增加而显著减小.Raman谱的研究证实,随CP增加,薄膜的晶化率经历了先增大后减小的过程,当C,=1.0％,晶化率达到最大值45.9％.傅里叶变换红外吸收谱测量结果显示,薄膜中的H含量在CP=2.0％时达到最低值9.5％.光学测量结果表明,本征和掺P的氢化纳米晶硅薄膜在可见光谱范围呈现出良好的光吸收特性,在0.8 ～3.0 eV范围内,nc-Si (P):H薄膜的吸收系数显著大于c-Si.和α-Si:H薄膜相比,虽然短波范围的吸收系数较低,但是在hv＜1.7 eV区域,nc-Si(P):H薄膜的吸收系数要高两到三个量级,显示出优良的红光响应.电学测量表明,适当掺P会显著提高氢化纳米晶硅薄膜的暗电导率,当CP=0.5％时,薄膜的暗电导率可达5.4S·cm-1.
关键词:
磷掺杂氢化纳米晶硅薄膜
,
晶化率
,
界面体积分数
,
光吸收系数
,
暗电导率
郑树凯
,
郝维昌
,
程躜
,
潘峰
,
王天民
,
赵艳玲
,
蒋湘宁
稀有金属材料与工程
利用射频磁控溅射技术,以Ar和O2气混合气体为溅射气体在载玻片上制备了锐钛相TiO2薄膜.为了提高TiO2薄膜的光催化活性,在TiO2薄膜表面进行了钽修饰.利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM)和UV-VIS-NIR分光光度计等技术对薄膜进行了表征.结果表明:对TiO2薄膜的表面进行适量的Ta元素修饰可以提高其光催化活性.
关键词:
TiO2薄膜
,
表面修饰
,
光催化活性
郑树凯
稀有金属材料与工程
利用溶胶-凝胶技术在载玻片衬底上制各了透明的TiO2薄膜.为了增强TiO2薄膜的光反应活性,对TiO2薄膜分别进行了不同浓度的Fe3+和La3+离子掺杂.离子掺杂的TiO2薄膜在可见光区有良好的透光性,通过降解罗丹明B染料溶液.评估了掺杂Fe3+和La3+离子的TiO2薄膜的光反应活性.结果表明,当Fe和La的原子分数比为0.5at%时增强了TiO2薄膜的光反应活性.
关键词:
LTiO2薄膜
,
溶胶-凝胶法
,
离子掺杂
,
光反应活性
苏杰
,
马昊
,
李明军
,
郑树凯
,
刘磊
材料科学与工程学报
热电材料是一种能将热能和电能直接相互转换的功能材料.热电器件由于具有结构简单、低价环保、无噪声、使用寿命长等优点,被人们广泛应用在温差发电与半导体制冷技术中.Zn-Sb合金由于其优越的热电性能成为了现阶段最重要的热电材料之一,以ZnSb、Zn4 Sb3两种合金最为常见.新近发现的Zn8Sb7结构,成为了新的研究热点.主要针对常见Zn-Sb合金的晶体结构、性能、制备技术进行了总结,并展望了该材料的应用前景.
关键词:
Zn-Sb合金
,
热电材料
,
热电性能
,
制备
,
应用前景
郝维昌
,
潘锋
,
王天民
,
郑树凯
稀有金属材料与工程
利用静电自组装工艺在石英衬底上制备了结构有序的TiO2/PSS纳米复合膜,并采用UV-Vis-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对复合膜的结构与光催化性能进行了深入的研究.结果表明:有序多孔TiO2颗粒膜具有良好的光催化性能,能够在短时间内降解掉复合膜中有机成分,烧结处理薄膜的光催化性能明显优于紫外照射处理的样品.
关键词:
静电自组装
,
二氧化钛
,
光催化
张俊英
,
郑树凯
,
郝维昌
,
潘锋
,
王天民
稀有金属材料与工程
利用分子自组装技术在载波片上制备了锐钛相TiO2及WO3掺杂的TiO2薄膜.利用原子力显微镜(AFM)和UV-VIS-NIR分光光度计对薄膜进行了表征.利用对罗丹明B的降解评价了所制备薄膜的光催化活性.结果表明:当W/Ti=2at%时,TiO2薄膜的光催化活性得到提高.
关键词:
TiO2薄膜
,
WO3掺杂
,
光催化活性
郑树凯
,
郝维昌
,
潘峰
,
张俊英
,
王天民
,
稀有金属材料与工程
在不同的Ar和O2气流量比下,利用射频磁控溅射技术在载波片上制备了TiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),拉曼光谱和UV-VIS-NIR分光光度计等技术对薄膜进行了表征.结果表明在Ar∶O2=20 sccm∶5 sccm下制备的薄膜具有较高的光催化活性.
关键词:
TiO2薄膜
,
流量比
,
表面粗糙度
,
光催化活性
