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磁控溅射SiC薄膜及其光电特性研究

周继承 , 郑旭强

功能材料

用射频磁控溅射法制备了SiC薄膜,并对其进行了退火处理.用AFM观察了薄膜的表面形貌,测量了薄膜的厚度与透射光谱.用J.C.Manifacier提出并由R.Swanepoel加以修正和完善的包络线法对薄膜透射光谱进行了分析计算,并结合Tuac公式确定了薄膜的光学带隙.结果表明:在不同射频功率下制备的薄膜均有较强的蓝紫光吸收特性,在低功率下可制备出表面平整,吸收系数小,光学带隙大的薄膜;退火处理后薄膜的吸收系数减小,光学带隙增大,晶粒向圆形转化且尺寸变大.

关键词: SiC薄膜 , 射频磁控溅射 , 表面形貌 , 光学特性

SiCN扩散阻挡层薄膜的制备及特性研究

周继承 , 石之杰 , 郑旭强

功能材料

采用磁控溅射法在单晶硅衬底上制备了SiCN及Cu/SiCN薄膜,并对试样进行了退火处理.利用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、四探针测试仪(FPP)研究了SiCN薄膜的表面形貌、物相结构及在Cu/SiCN/Si结构中SiCN薄膜对铜与硅的阻挡性能.结果表明,沉积态SiCN薄膜为无定型的非晶结构,晶化温度在1000℃以上;SiCN薄膜作为Cu的扩散阻挡层有较好的热稳定性及阻挡性,阻挡失效温度在600℃左右.

关键词: SiCN薄膜 , 铜互连 , 电介质阻挡层 , 磁控溅射

SiC薄膜材料与器件最新研究进展

周继承 , 郑旭强 , 刘福

材料导报

SiC单晶因其宽的禁带宽度、高的电子饱和速度、大的临界击穿场强、高的热导率和热稳定性等特性而成为制作高频、大功率和耐高温器件的理想材料.综述了SiC材料及器件的研究现状、关键技术和发展趋势;分析了我国的研究现状和存在的差距.

关键词: SiC材料 , SiC器件 , 研究现状 , 关键技术 , 发展趋势

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