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利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响

赵朋 , 夏海瑞 , 孙大亮 , 卢贵武 , 郑文强

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.01.008

利用全息相衬干涉显微术(HPCIM)研究了EDTA对KDP晶体(100)柱面和(101)锥面生长习性的影响.通过界面边界层宽度的变化,可以直观地观测到在溶液中添加少量的EDTA后,促使KDP晶体沿柱面和锥面的生长,特别是对柱面的影响更为显著,并对此作了解释.最佳的EDTA浓度范围有待于进一步研究.

关键词: KDP晶体 , EDTA , 全息相衬干涉显微术

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