欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(5)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

光促进下N,N-二甲基甲酰胺作为一氧化碳源的烯烃氢酯化反应

孙文豪 , 尹静梅 , 高大彬 , 周广运 , 郑学仿 , 贾颖 , 王祥生

催化学报

研究了光照下以N,N-二甲基甲酰胺(DMF)为一氧化碳源的烯烃氢酯化反应.结果表明,在常温常压和光照射条件下DMF可以分解得到CO,新生成的CO在光促进下可以直接与CH3OH-DMF溶液中的底物1-辛烯在温和条件和非贵金属钴化合物(Co(Oac)2,CoCl2,Co(en)3Cl2和大环钴[Co(14)4,11-二烯-N4]I2)催化下进行氢酯化反应,反应中DMF既是溶剂,又是原料.H13CON(CH3)2同位素示踪实验证实了这一结果.在反应体系中通入二氧化碳可以大大提高反应的转化率、产率及选择性.13CO2同位素示踪实验表明,CO2并未参与产物的形成,其作用是中和DMF分解产生的HN(CH3)2,从而有利于DMF的光促分解.

关键词: N , N-二甲基甲酰胺 , 一氧化碳 , 光促进 , 1-辛烯 , 氢酯化 , 同位素示踪 , 二氧化碳

常温常压下光促进烯烃与一氧化碳的羰基化反应

尹静梅 , 周广运 , 高大彬 , 郑学仿 , 贾颖萍 , 孙文豪 , 王祥生

催化学报

报道了烯烃(环己烯和1-辛烯)与一氧化碳通过光促进实现常温常压非贵金属(钴配合物)催化的羰基化反应. 研究发现,以Co(Oac)2为催化剂时,不需要加入光敏剂丙酮就能发生反应; CoSalen,吡啶-2-羧酸钴和大环配合物[Co(14)4,11-diene-N4]I2是较好的催化剂,其催化活性比Co(Oac)2高. 其中,吡啶-2-羧酸钴与Co(Oac)2相同,反应中不需要光敏剂存在,其选择性很高. 通过氘代丙酮和氘代甲醇同位素实验,进一步证实了反应中双键异构的存在和副产物的分析结果.

关键词: 环己烯 , 辛烯 , 光促进 , 羰基化反应 , 钴配合物

化学镀Ni-Mo-P合金镀层的组织结构与防垢性能研究

雍帆 , 付传起 , 骆旭梁 , 王宙 , 姚井龙 , 郑学仿

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.12.016

目的 采用材料测试方法和防垢实验,研究不同工艺条件下的化学镀Ni-Mo-P合金镀层的组织结构与防垢性能. 方法 在化学镀Ni-P镀层基底上,添加含有钼酸根离子杂多酸盐,在不同工艺条件下化学沉积Ni-Mo-P合金镀层,研究化学镀Ni-Mo-P合金镀层的表面形貌和组织结构,分析镀液中硼酸含量和钼酸铵含量对镀层沉积速率的影响,观测镀层在结垢实验后的表面形貌并分析结垢速率. 通过SEM,XRD和EDS对化学镀Ni-Mo-P合金镀层的表面形貌和组织结构进行检测,研究在酸性镀液中硼酸含量对化学镀Ni-Mo-P工艺条件的影响. 采用防垢实验测试化学镀Ni-Mo-P合金镀层的防垢性能. 结果 在化学镀Ni-Mo-P过程中,钼酸根离子杂多酸盐具有稳定作用. 化学镀Ni-Mo-P合金镀层的化学沉积镀液的最佳工艺条件为:NiSO4 ·6H2 O 16. 5 g/L,NaH2 PO2 ·H2 O 20 g/L,钼酸钠0. 5~0. 8 g/L,硼酸2 g/L,乙酸钠7. 5 g/L. 化学镀Ni-Mo-P合金镀层的结垢速率明显低于化学镀Ni-P镀层,具有良好的防垢能力,形成了非晶态的镀层. 结论 采用化学镀Ni-P镀层基底上沉积得到非晶态的Ni-Mo-P合金镀层,硼酸具有调节镀液pH值和络合作用,非晶态的Ni-Mo-P合金镀层平均结垢速率最小值为0. 58 μm/h,具有良好的阻垢能力.

关键词: 化学镀Ni-Mo-P , 组织结构 , 非晶态 , 防垢性能 , 硼酸 , 沉积速率

大分子拥挤条件下光诱导辣根过氧化物酶还原的光谱研究

曹洪玉 , 王珍 , 唐乾 , 郑学仿

影像科学与光化学 doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2015.04.321

稀溶液中光诱导辣根过氧化物酶(Horseradish Peroxidase,HRP)能够发生还原反应,但这一研究忽略了生物体细胞内因存在各种分子而高度拥挤的真实环境.本文采用紫外可见、荧光、同步荧光及圆二色光谱法,研究了大分子拥挤环境中光诱导HRP的还原过程及外界环境对其光还原的影响.UV-Vis光谱和同步荧光光谱结果表明,采用403 nm单色光照射时,HRP在拥挤试剂葡聚糖70(Dextran70)中还原程度较好,而HRP在聚蔗糖70(Ficoll70)拥挤环境下不发生光还原反应;采用280 nm单色光照射时,在拥挤试剂DextranT0和Ficoll70中HRP光还原反应程度增加,且HRP的光还原程度在Ficoll70溶液中远高于在Dextran70溶液中;光诱导HRP还原的最适温度在Dextran70和Ficoll70环境中分别为4℃和24℃;HRP在Dextran70溶液中的最佳光还原浓度是100 g/L,在Ficoll70环境中HRP还原程度随着Ficoll70浓度的增加而增大;CD光谱结果表明拥挤环境中HRP被光还原后,蛋白的二级结构基本没有变化.

关键词: 大分子拥挤环境 , 辣根过氧化物酶 , 光照还原 , 光谱法

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词