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电沉积方式对Ni-SiC纳米复合镀层性能的影响

王琳 , 路金林 , 刘坤 , 何龙龙 , 郑奇 , 罗晓媛

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.028

目的 通过研究电沉积方式对Ni-SiC纳米复合镀层性能的影响,进而改善Ni-SiC纳米复合镀层的性能.方法 采用直流电沉积和脉冲电沉积分别制备Ni和Ni-SiC纳米复合镀层,使用扫描电镜和能谱仪研究镀层的表面形貌和成分,通过测量施镀前后镀件质量差计算沉积速率,采用硬度计测量了镀层的硬度,利用极化曲线和电化学阻抗方法研究镀层在3.5%NaCl水溶液中的耐腐蚀性能,分析了直流电沉积方式和脉冲电沉积方式对镀层各项性能的影响.结果 脉冲电沉积方式制备的Ni-SiC纳米复合镀层的表面形貌更加致密、均匀、光滑,镀层硬度为616.3HV,自腐蚀电流为9.56×10-6 A,比直流电沉积制备的Ni-SiC纳米复合镀层的硬度和耐蚀性能均有所提高.结论 电沉积方式对复合镀层的性能有很大影响,脉冲电沉积方式制备的Ni-SiC纳米复合镀层具有更好的性能.

关键词: 直流电沉积 , 脉冲电沉积 , 纳米复合镀层 , 组织结构 , 硬度 , 耐蚀性 , 沉积速率

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