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DZ406合金及其渗铝涂层1100℃氧化性能研究

宁礼奎 , 郑志 , 张达 , 邹清川 , 刘峰 , 刘恩泽 , 佟健 , 惠升

腐蚀学报(英文)

研究DZ406合金及渗铝涂层在1100℃的氧化行为, 利用扫描电镜(SEM)观察其表面形貌和截面组织. 结果表明, 合金在氧化初期表面产物含有大量的晶须状Θ-Al2O3, 后期表面产物主要为α-Al2O3和由Ni、Co、Cr等元素组成的尖晶石相; 渗铝涂层表面产物在氧化初期晶须状θ-Al2O3较少, 一定时间后全部转变为α-Al2O3.

关键词: DZ406合金 , aluminized coating , oxidation

DZ406合金及其渗铝涂层1100℃氧化性能研究

宁礼奎 , 郑志 , 张达 , 邹清川 , 刘峰 , 刘恩泽 , 佟健 , 惠升

腐蚀学报(英文)

研究DZ406合金及渗铝涂层在1100℃的氧化行为,利用扫描电镜(SEM)观察其表面形貌和截面组织.结果表明,合金在氧化初期表面产物含有大量的晶须状θ-Al_2O_3,后期表面产物主要为α-Al_2O_3和由Ni、Co、Cr等元素组成的尖晶石相;渗铝涂层表面产物在氧化初期晶须状θ-Al_2O_3较少,一定时间后全部转变为α-Al_2O_3.

关键词: DZ406合金 , 渗铝涂层 , 氧化

CaO-SiO2-BaO-CaF2四元渣去除熔硅中的硼杂质

孙金玲 , 接金川 , 邹清川 , 郭丽娟 , 曹志强 , 王同敏 , 李廷举

中国有色金属学报(英文版) doi:10.1016/S1003-6326(16)64464-3

为提高硼的去除率,研究了电磁感应精炼过程中硼杂质在 CaO?SiO2?BaO?CaF2四元渣和熔硅之间的分配系数 LB,讨论了四元渣系中 CaO/SiO2质量比、BaO 和 CaF2含量、熔炼时间对 LB 的影响规律。结果表明:随着 CaO?SiO2渣中 BaO 和 CaF2含量的增大,LB 值增大。当 CaO/SiO2质量比为1.1:1、BaO 和 CaF2含量分别为15%和20%时,CaO?SiO2?BaO?CaF2四元渣去除熔硅中硼杂质效果最好,LB 达到最大值6.94,并且 LB 随着熔炼时间的延长而增大。经过两次造渣后,熔硅中硼含量由3.5×10?5降到3.7×10?6,硼的去除率达到89.4%。

关键词: 冶金级硅 , 除硼 , CaO-SiO2-BaO-CaF2

腐蚀时间对多孔硅层形貌及多晶硅性能的影响

解希玲 , 谭毅 , 李佳艳 , 董伟 , 刘艳娇 , 邹清川

机械工程材料

采用化学腐蚀方法在多晶硅表面制备多孔硅层,通过外吸杂热处理方法进行除杂后对腐蚀不同时间后多孔硅层的形貌、多晶硅少子寿命和电阻率等进行了研究。结果表明:随着腐蚀时间的延长,形成的多孔硅层呈现不同的形貌,多孔壁孔径逐渐变大,少子寿命延长且电阻率增大;腐蚀14min后。多孔硅层局部区域坍塌,孔壁变薄;腐蚀11min时,经850℃吸杂处理的多孔硅层少子寿命和电阻率达到峰值,分别为0.98μs和0.16Ω·cm。

关键词: 多孔硅 , 多晶硅 , 化学腐蚀 , 电阻率 , 少子寿命

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