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采用复合熔铸一旋煅法制备了铜包Q195钢复合线材，通过拉伸试验、组织观察、电阻率测试等对其力学性能、组织形貌及电学性能进行了研究。结果表明：熔铸后铜和钢的结合面呈锯齿状，界面较清晰，组织较为粗大，无中间相形成，旋锻后组织细小；直径为2，3．4，4mm的钢芯制备的铜包钢复合棒材旋锻后制得的复合线材的抗拉强度分别是260．63，368．83，419．12MPa，电阻率分别为1．981×10^-6，1．976×10^-6，2．035×10^-6Ω·cm；旋锻后横截面上钢芯的面积比越大，其抗拉强度越接近纯钢芯的；铜包钢复合线材拉伸断口出现大量韧窝，断裂方式为典型的韧性断裂。

关键词: 复合熔铸 , 旋锻法 , 铜包钢复合线材

热化学共还原法制备W包覆Cu纳米复合粉体

李君强 , 陈文革 , 陶文俊 , 邵菲 , 丁秉均

稀有金属材料与工程

采用两种粒径的氧化铜粉末和粒径为1.5 μm的三氧化钨粉末来制备高纯度的CuWO4粉末,分别通过控制CuWO4粉末在360和750℃两个阶段的氢气还原作用,制备出钨包覆铜纳米复合粉体.复合粉体的微观形貌,组织结构与颗粒尺寸采用扫描电子显微镜(SEM),X线衍射分析仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)进行测试,激光粒度测试仪(LPSA)用来测试CuWO4粉末的粒度.由小粒度CuWO4粉末制备出的钨包覆铜纳米复合粉体的钨包覆层厚度小,氢气还原制备的钨包覆铜复合粉体的平均粒径约50 nm.

关键词: 热化学共还原 , 包覆粉体 , 纳米 , W-Cu

磁控溅射法制备W-Cu薄膜的研究

陈文革 , 张剑 , 熊斐 , 邵菲

表面技术

采用W70Cu30单靶磁控溅射与纯W、纯Cu双靶磁控共溅两种工艺,在多种基材上制备W-Cu薄膜,分析了薄膜的宏观形貌和组织结构.分析结果表明:单靶磁控溅射时,控制靶电压520 V,溅射电流0.8～1.2A,Ar气流量25 mL/min(标准状态),可在玻璃基体上镀得W-Cu薄膜,但退火时如温度过高,会使W和Cu两种元素原子偏聚加重;双靶磁控溅射时,控制Ar气流量20 mL/min(标准状态),Cu靶电流0.7A,W靶电流1.2A,溅射时间3600 s,可在硅基和玻璃基上镀得W-Cu薄膜,但在石墨基体、陶瓷基体及45钢基体上的镀膜效果不理想.

关键词: W-Cu薄膜 , 磁控溅射 , 单靶 , 双靶

有色金属制精密零件的化学去毛刺技术研究

邵菲 , 陈文革

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.04.030

提出了一种化学去毛刺技术,去毛刺液的组成(质量分数)为70%磷酸+12%草酸+18%水,去毛刺时控制溶液温度在45～60℃、时间为10～45 min即可.运用体视显微镜、扫描电子显微镜、X-ray衍射仪和维氏硬度计等手段考察了此化学去毛刺技术处理有色金属制精密零件的效果,认为此化学去毛刺技术可以达到精度要求、技术要求和质量要求,不改变零件的性能,且具有一定的光亮作用.

关键词: 有色金属 , 精密零件 , 去毛刺 , 化学法

不锈钢精密零件化学去除毛刺后的组构及硬度

邵菲 , 陈文革

材料保护

零件机械加工后表面存在毛刺,影响其质量甚至是使用寿命.研究了一种简单易行的化学去毛刺技术:70%磷酸,12%草酸,18%水;先经17℃,10 min保温处理,然后控温45～60℃,保温10～45 min.运用体视显微镜对不锈钢精密零件化学去毛刺后的状态进行了研究.结果显示:化学去毛刺法效率高,设备简单,可以达到各种精度要求、技术要求和质量要求;不改变零件的性能,且对其表面还具有一定的光亮作用.

关键词: 化学去毛刺 , 不锈钢精密零件 , 组织结构 , 硬度

铬青铜和铜铬锆热处理前后的显微组织

陈文革 , 李永华 , 邵菲 , 丁秉均

材料热处理学报

采用高分辨的透射电子显微镜分析铬青铜和铜铬锆在固溶时效处理前后的显微组织。结果表明,铬青铜和铜铬锆合金在固溶时溶解于铜基体的强化相Cr在时效后弥散均匀分布在基体Cu上。铬与铜没有中间相或化合物形成,铜铬锆固溶时效处理后组织中的析出相要比铬青铜组织中的析出相尺寸小,铜铬锆晶界处偏聚的析出相尺寸也比铬青铜晶界处的析出相小,而且添加锆所构成的铜合金则有Cu5Zr相的析出。

关键词: 固溶时效处理 , 组织结构 , 铬青铜 , 铜铬锆