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TiO2纳米管阵列负载MnOx复合催化剂的脱硝性能

赵崇斌 , 杨杭生 , 周环 , 邱发敏 , 张孝彬

催化学报 doi:10.3724/SP.J.1088.2011.01127

研究了TiO2纳米管阵列负载的MnOx复合物选择性催化还原NOx的性能.结果显示,在150~250℃下该催化剂脱除NOx的效率达90%以上(200℃下为99%以上),表现出优异的中低温脱硝性能.当反应温度更高时,有可能使反应进入努森扩散控制状态,从而在一定程度上抑制了催化反应的进行.

关键词: 锰氧化物 , 二氧化钛纳米管阵列 , 氮氧化物 , 选择性催化还原

立方氮化硼薄膜中的氧杂质

杨杭生 , 邱发敏 , 聂安民

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00748

采用等离子体增强化学气相生长技术制备立方氮化硼薄膜, 系统研究了背底真空度和生长过程中氧气的存在对立方氮化硼薄膜中氧杂质含量的影响. 发现把背底真空度提高至1×10-5 Pa仍然不能有效消除立方氮化硼薄膜中的氧杂质. 随着立方氮化硼薄膜中氧杂质的增加, 其红外吸收谱的Lorentz拟合发现, 在1230~1280 cm-1附近出现由氧原子与硼原子结合形成的B-O键的反对称伸缩振动引起的吸收峰. 该吸收峰的强度与薄膜中的氧杂质含量有较好的线性关系, 因此可以通过分析该吸收峰的强度半定量地测定立方氮化硼薄膜中的氧杂质含量.

关键词: 立方氮化硼薄膜 , plasma-enhanced CVD , infrared spectroscopy , oxygen impurity

立方氮化硼薄膜中的氧杂质

杨杭生 , 邱发敏 , 聂安民

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00748

采用等离子体增强化学气相生长技术制备立方氮化硼薄膜,系统研究了背底真空度和生长过程中氧气的存在对立方氮化硼薄膜中氧杂质含量的影响.发现把背底真空度提高至1×10-5Pa仍然不能有效消除立方氮化硼薄膜中的氧杂质.随着立方氮化硼薄膜中氧杂质的增加,其红外吸收谱的Lorentz拟合发现.在1230~1280 cm-1附近出现由氧原子与硼原子结合形成的B-O键的反对称伸缩振动引起的吸收峰.该吸收峰的强度与薄膜中的氧杂质含量有较好的线性关系,因此可以通过分析该吸收峰的强度半定量地测定立方氮化硼薄膜中的氧杂质含量.

关键词: 立方氮化硼薄膜 , 等离子体增强化学气相生长 , 红外光谱 , 氧杂质

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