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AZ91D表面微弧氧化陶瓷层形貌及磨损特性分析

车广东 , 刘向东

材料热处理学报

利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、磨损试验、激光共聚焦显微镜等手段,分析了镁合金AZ91D微弧氧化陶瓷层表面、截面形貌及相组成,研究了微弧氧化试样和基体试样的磨损性能及三维形貌.结果表明,AZ91D镁合金经微弧氧化处理10 min后,陶瓷层与基体结合紧密,表面有微孔和裂纹存在且较为粗糙,陶瓷层最小厚度达62.9 μm左右.陶瓷层主要由Mg2SiO4相和MgO两相组成,膜层硬度为349.4 HV,摩擦因数达到0.119,其磨损破坏的形式主要为剥离和划伤,微弧氧化试样的耐磨性有所提高.

关键词: AZ91D , 微弧氧化 , 陶瓷膜层 , 摩擦 , 磨损形式

KOH体系下负向电压对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化膜形成的影响

刘婷婷 , 刘向东 , 张雅萍 , 车广东 , 吕凯

材料热处理学报

负向电压对微弧氧化陶瓷膜形成有极其重要的影响.电解液组成变化时,负向电压也必须作相应调整,才能确保微弧氧化过程的稳定和氧化膜的质量.在含mSiO2·nH2O的KOH复合电解液中,在负向电压60 ~ 140 V的条件下对ZAlSil2Cu2Mg1合金进行微弧氧化.采用电涡流测厚仪、SEM和XRD对陶瓷膜进行表征,研究了负向电压对厚度、表面形貌、相组成及耐磨性的影响.结果表明:随着负向电压增大,膜厚增加,膜层中有显微裂纹存在;负向电压为120 V时,膜厚达到186.7 μm,耐磨性好.膜层主要由Mullite及α-Al2O3相组成,但衍射谱中α-Al2O3相峰强较高.

关键词: 微弧氧化 , 负向电压 , ZAlSi12Cu2Mg1 , 陶瓷膜

镁合金表面微弧氧化放电现象及氧化膜特性分析

车广东 , 刘向东 , 刘景顺 , 吕凯

稀有金属

为研究AZ91D表面微弧氧化过程中的放电现象及膜层特性,采用高速摄像机记录微弧氧化试样表面在Na2SiO3-NaOH电解液体系下放电过程的瞬间图像.用扫描电子显微镜(SEM)对微弧氧化膜层截面形貌和表面形貌进行观察,利用X射线衍射仪(XRD)分析膜层的相组成.结果表明:AZ91D合金在微弧氧化稳定阶段,放电过程呈周期性变化规律.AZ91D合金微弧氧化膜层由致密层与疏松层构成,靠近基体一侧为致密层,膜层外侧为疏松层,在疏松层表面存在微孔和裂纹缺陷,膜层最大厚度约为169 μm.陶瓷膜层主要由MgO和Mg2SiO4相组成,且以MgO相为主.

关键词: 镁合金 , 微弧氧化 , 放电现象 , 膜层性能

电解液中Ce(NO_3)_3含量对ZAlSi12合金微弧氧化层特性的影响

国春艳 , 刘向东 , 张雅萍 , 车广东 , 王颖辉 , 王欢

材料热处理学报

研究Na_2SiO_3 -NaOH体系电解液中Ce(NO_3)_3含量在0~0.20 g/L范围内变化时对ZAlSi12合金表面微弧氧化陶瓷层组织和厚度的影响.采用SEM、XRD分析微弧氧化处理后陶瓷层的表面形貌和相组成.结果表明:随着Ce(NO_3)_3含量增加,陶瓷氧化层厚度逐渐增大,电解液中Ce(NO_3)_3加入量0.15 g/L时可获得最大厚度为170 μm的陶瓷层;电解液中加入Ce(NO_3)_3后,膜层仍主要由α-Al_2O_3和γ-Al_2O_3相组成,但α-Al_2O_3相的相对含量增加.

关键词: 微弧氧化 , 电解液 , Ce , (NO_3)_3 , ZAlSi12 , 陶瓷层

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