樊丽红
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王朝勇
,
路钟杰
,
关瑞红
,
姚宁
表面技术
利用能量过滤磁控溅射技术,于低温条件下,在玻璃衬底上制备ITO薄膜,研究了过滤电极金属网栅目数、溅射功率、衬底温度对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明:在网栅目数为60目、衬底温度为81℃、溅射功率为165W的条件下,所得ITO薄膜的电阻率为4.9×10-4Ω·cm,可见光区平均透过率达到87％.
关键词:
ITO薄膜
,
能量过滤磁控溅射
,
光电性能
苏博
,
姚宁
,
鲁占灵
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路钟杰
,
关瑞红
材料导报
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在黑硅和抛光单晶硅片衬底上生长非晶碳薄膜,其中变量为CH4流量,分别为10sccm、14sccm、18sccm、22sccm、26sccm.通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射分析(XRD)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱表征了非晶碳薄膜的结构和形貌特征.结果表明,在650℃时随着CH4流量的逐渐增加,在平整的非晶碳薄膜上C-C的sp2相团簇颗粒的直径逐渐变大.AFM测试结果显示,非晶碳薄膜表面的平均粗糙度(Ra)为0.494nm.
关键词:
微波等离子体化学气相沉积
,
黑硅
,
非晶碳薄膜
,
太阳电池
