傅泽禄
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顾大振
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刘雷
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赵恩海
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康琳
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冯一军
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吉争鸣
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王晓书
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尹晓波
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杨森祖
低温物理学报
doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2000.06.009
本文利用CF4气体,对YBCO薄膜表面进行可控的rf等离子体氟化处理.AFM与XPS 的分析结果表明:适当的氟化所起的作用主要为化学反应作用.氟化可造成Y(3d)与O(1 s)诸元素的本征峰相对强度减少,甚至消失;对Ba(3d),Ba(4d)和其它元素也有影响.本文的研究为利用等离子体氟化YBCO膜形成弱化势垒层提供了初步结果.
关键词:
