杨帆
,
黎烈武
,
童东革
,
黄林艳
,
芦会杰
,
李倩倩
,
黄鑫辰
,
赵彦辉
,
李宾克
环境化学
doi:10.7524/j.issn.0254-6108.2015.08.2015013002
以市售的CaO为阻滞剂,分别添加MgO、CeO2、BaO、γ-Al2O3金属氧化物形成钙基复合氧化物,通过探究它们对前驱体五氯酚(PCP)生成PCDD/Fs反应的阻滞作用,讨论了MgO、CeO2、BaO、γ-Al2O3金属氧化物对CaO阻滞作用的影响.结果表明,在280℃下加热2h,钙基复合氧化物对PCP生成PCDD/Fs的阻滞活性都很高.在PCDD/Fs的生成总量上,CeO2、BaO、γ-Al2O3金属氧化物对CaO的阻滞效果起到促进作用;但在I-TEQ方面,仅BaO对CaO的阻滞效果有促进作用.CaO与BaO钙基复合氧化物对PCP生成PCDD/Fs的阻滞效率达到99.98％,总毒性当量阻滞效率TSE1-TEQ达到99.62％.钙基复合氧化物可能的阻滞机理是CaO、MgO、CeO2、BaO、γ-Al2O3均具有一定的碱性,能与酚类前驱体发生中和反应,阻滞了Ullman反应的发生,进而减少了PCDD/Fs的生成.
关键词:
PCP
,
PCDD/Fs
,
阻滞
,
钙基复合氧化物
Ovcharenko V.E.
,
Psaknye S.G.
,
Ivanov Yu.F.
,
Mokhovikov A.A.
,
于宝海
,
赵彦辉
,
Ignat'ev A.S.
稀有金属材料与工程
介绍了TiC/Ni-Cr-Al合金陶瓷在脉冲电子束熔化后的实验及结构方面的表征,考察了表面纳米尺寸结构的不同级别对亚表层金属物理性质的影响.结果表明,在氙气或者是氙气+氮气的气体放电等离子体辐照后在亚表层出现纳米结构的碳化物颗粒,这大大降低了摩擦系数,使金属陶瓷切削金属时的寿命提高约20倍.
关键词:
金属陶瓷
,
微观结构
,
结构级别
,
摩擦系数
,
寿命
赵彦辉
,
贾莹
,
冯丹
,
李凤岐
,
于宝海
材料热处理学报
采用电弧等离子体辅助渗氮处理了304不锈钢,考察了温度在480℃、处理1h时氩气含量(0～60％)对处理后渗层组织结构及硬度的影响.采用X射线衍射(XRD)分析渗氮层的相组成,采用扫描电子显微镜(SEM)及光学显微镜分别观察渗氮样品表面形貌及横截面形貌,利用X射线光电子谱(XPS)及显微硬度计测试渗氮层的氮含量及横截面硬度分布.结果表明:氮化处理后在不同氩气含量时得到的渗氮层厚度在45～ 55 μm范围内,表层氮含量随着氩气含量增加略有降低,从XRD图谱中发现均有铁氮化物及氮化铬相析出,这些氮化物的析出促进了渗层显微硬度的提高,表层硬度最高达到了1300 HV0.05.
关键词:
电弧等离子体辅助渗氮
,
奥氏体不锈钢
,
组织结构
,
硬度
赵彦辉
,
林国强
,
李晓娜
,
董闯
,
闻立时
金属学报
采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜，采用正交实验法设计脉冲偏压电参数，考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响。结果表明, 在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和周期比)中, 脉冲偏压幅值是影响显微硬度的最主要因素；当沉积工艺中脉冲偏压幅值为900 V、占空比为50%及频率为30 kHz时, 薄膜硬度可高达34.1 GPa, 此时多层膜调制周期为84 nm，TiN和Ti单元层厚度分别为71和13 nm；由于薄膜中的单层厚度较厚, 纳米尺寸的强化效应并未充分体现于薄膜硬度的贡献中，硬度的提高主要与脉冲偏压工艺，尤其是脉冲偏压幅值对薄膜组织的改善有关。
关键词:
脉冲偏压
,
null
,
null
赵彦辉
,
肖金泉
,
黄荣芳
,
闻火
,
闻立时
功能材料
硅薄膜作为制备硅薄膜太阳电池的重要材料,得到了广泛研究和应用,而硅薄膜中的各种缺陷及缺陷密度则对薄膜电池的转换效率和稳定性有着至关重要的影响.对硅薄膜中的缺陷种类、缺陷研究方法以及缺陷对薄膜性能的影响进行总结,期望对提高和改善硅薄膜质量乃至硅薄膜太阳电池转换效率和稳定性提供一定的指导.
关键词:
硅薄膜
,
缺陷
,
缺陷研究方法
,
转换效率
赵彦辉
,
肖金泉
,
林国强
,
郎文昌
,
于宝海
机械工程材料
综述了近年来超硬纳米多层膜材料选择与结构设计的研究进展,主要介绍了多层膜的选材,从构成多层膜的材料种类、膜与基体的选择、多层膜材料的选择以及从超硬效应理论得到的启示等几个方面总结了多层膜实现超硬特性时要考虑的因素,并指出了目前存在的问题及今后的发展方向.
关键词:
超硬纳米多层膜
,
材料选择
,
结构设计
赵彦辉
,
贾莹
,
于宝海
,
肖金泉
表面技术
综述了国内外真空镀膜方法,包括化学气相沉积与物理气相沉积方法对管状构件内表面镀膜的研究进展,介绍了热化学气相沉积及各种等离子体(包括直流、射频及电子自旋共振等离子体)增强化学气相沉积方法在管状构件内表面镀膜方面的应用,分析了这种方法的优缺点;重点阐述了溅射镀膜方法(包括直流二极(或三极)溅射、磁控溅射及离子束(或激光束)溅射)及电弧离子镀技术在管状构件内表面镀膜时对薄膜种类、沉积速率、薄膜厚度轴向均匀性、膜/基结合力等方面的特点.最后对管状构件内表面各种真空镀膜方法进行了分析对比,指出了存在的问题及今后的发展方向.
关键词:
管状构件
,
内表面
,
物理气相沉积
,
化学气相沉积
赵彦辉
,
巴宏波
,
郎文昌
,
杜昊
,
于宝海
材料热处理学报
采用不同温度对Crl2MoV钢进行电弧等离子体辅助渗氮处理.采用X射线衍射(XRD)分析渗氮层的相组成,采用扫描电子显微镜(SEM)及光学显微镜分别观察渗氮样品表面形貌及横截面形貌,利用显微硬度计测试渗氮层的硬度分布.结果表明:实验钢渗氮层的结构由CrN+γ'-Fe4N+ε-Fe3N的化合物层及由含氮马氏体相α-Fe (N)组成,渗氮层的厚度随处理温度的升高而增加.渗氮处理后能明显提高Cr12MoV钢基体的显微硬度.
关键词:
电弧等离子体辅助渗氮
,
模具钢
,
组织结构
,
硬度
赵彦辉
,
林国强
,
李晓娜
,
董闯
,
闻立时
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.020
采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜,采用正交实验法设计脉冲偏压电参数,考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响.结果表明,在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和周期比)中,脉冲偏压幅值是影响显微硬度的最主要因素;当沉积工艺中脉冲偏压幅值为900 V、占空比为50%及频率为30 kHz时,薄膜硬度可高达34.1 GPa,此时多层膜调制周期为84 nm,TiN和Ti单元层厚度分别为71和13 nm;由于薄膜中的单层厚度较厚,纳米尺寸的强化效应并未充分体现于薄膜硬度的贡献中,硬度的提高主要与脉冲偏压工艺,尤其是脉冲偏压幅值对薄膜组织的改善有关.
关键词:
脉冲偏压
,
电弧离子镀
,
Ti/TiN纳米多层薄膜
,
显微硬度
