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蜂窝芯体材料面外等效弹性模量预测与分析

赵剑 , 谢宗蕻 , 安学峰 , 张明 , 刘刚 , 马宏毅

航空材料学报 doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2008.04.019

基于最小势能原理和最小余能原理,选择比Kelsey模型所用表征单元更简化的单元为研究对象,推导出与之完全相同的蜂窝芯体面外等效弹性模量的解析表达式.采用有限元法预测一组典型商用正六边形蜂窝芯体的面外等效弹性模量,并将解析解模型预测值、有限元模型预测值与厂家公布的材料试验数据进行对比.提出一组基于解析解模型的修正公式用于预测与分析典型正六边形蜂窝芯体的面外等效弹性模量.

关键词: 蜂窝 , 面外等效模量 , 有限元 , 修正公式

车载永磁传感器件中NdFeB烧结永磁的稳定性分析

王大鹏 , 常颖 , 赵剑 , 李晓东 , 魏志勇 , 齐民

功能材料

研究了电磁干扰、振动和温度等环境因素对NdFeB永磁性能的影响.研究结果表明:(1) 场强或频率越高,失效越大,而交变磁场比稳恒磁场更为严重;(2) 交变场下因涡流的"趋肤"效应,导致永磁出现不可逆的热退磁现象,当外场为30kA/m、500Hz干扰时,其失效瞬间即超过15%;(3) 振动和高温的共同作用干扰,使得退磁失效情况加剧.

关键词: NdFeB烧结永磁 , 电磁干扰 , 振动 , 稳定性

硫化锑单晶纳米带的水热制备、表征及性能研究

陈广义 , 张万喜 , 魏志勇 , 梁继才 , 赵剑

功能材料

运用水热法大量制备出了高长径比的硫化锑(Sb2S3)纳米带.十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为形貌控制剂在纳米带的形成过程中起了至关重要的作用,运用X 射线粉末衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电镜(HRTEM)等对所得产物进行了系统的表征,结果表明制备出的Sb2S3纳米带是沿[001]晶面方向生长的,带的宽度在1μm以内,长度可达几十个微米.对Sb2S3纳米带的生长机理和光学性质进行了初步的讨论和研究.

关键词: 水热法 , 硫化锑 , 纳米带 , 生长机理

磁场下球磨处理各向异性纳米级Sm2Co17磁粉的制备与分析

常颖 , 赵剑 , 李晓东 , 魏志勇

功能材料

2∶17型SmCo稀土永磁合金以良好的温度特性和较高的磁性能已成为不可或缺的高温永磁器件,通过球磨工艺,利用有机试剂庚烷和油酸对2∶17型Sm(CobalFe0.07Cu0.088Zr0.025)7.5磁粉表面的包覆预处理,并在磁场强度为1.5T的外磁场下,对该磁粉进行细磨0.5~20h,制备得到厚度为20~100nm、具有各向异性能的纳米级磁片,其对应的磁性能(BH)m为127.36kJ/m3。

关键词: 各向异性 , 机械合金化 , 纳米结构 , 磁场下球磨 , 2∶17型SmCo永磁

重掺硼对直拉单晶硅片上压痕位错运动的影响

赵泽钢 , 赵剑 , 马向阳 , 杨德仁

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.03.001

对比研究了轻掺硼(1.5×1016 cm-3)和重掺硼(1.2×1020 cm-3)直拉硅片上维氏压痕周围的残余应力分布及压痕位错在900℃滑移的情况.研究表明:重掺硼直拉硅片上压痕周围的残余应力及应力场区域显著小于轻掺硼硅片的.在900℃热处理时,轻掺硼硅片上的压痕位错发生显著的滑移,而重掺硼硅片上的压痕位错几乎不发生滑移.一方面,重掺硼降低了单晶硅的压痕断裂韧性,使侧向裂纹尺寸增大而释放更多的应力,从而使压痕的残余应力变小;另一方面,重掺硼对位错具有明显的钉扎作用,使位错的滑移需要更大的应力驱动.可以认为正是上述两方面的效应使得重掺硼硅片的压痕位错几乎不发生滑移.

关键词: 单晶硅片 , 重掺硼 , 位错滑移

PA6/PS双连续相的临界组分比及相形态研究

赵剑 , 许忠斌 , 冯连芳

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2006.08.009

在哈克转矩流变仪中,研究了操作温度、螺杆转速、共混时间和相容剂苯乙烯马来酸酐共聚物(SMA)对尼龙6/聚苯乙烯(PA6/PS)共混物形成双连续相组分比例范围的影响.结果表明:操作温度、螺杆转速、共混时间对共混物形成双连续相组分比例范围的影响不大,SMA的加入使形成双连续相的比例范围大大减小,SMA阻碍分散相间的碰撞、降低其凝聚是产生这种现象的主要原因.对双连续相PA6/PS(50/50,质量分数/%)共混物进行静态热处理,用扫描电镜(SEM)观察形态发现:在一定温度下双连续相相尺寸随热处理时间增加而增大;温度越高,相尺寸随时间增大的速度也大大加快,但仍能够保持双连续相态.在一定温度下,连续相经过破裂、凝聚,使两组分的界面面积降低是相态粗化的主要原因.

关键词: 双连续相 , 共混 , 形态 , 相容剂

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