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磁控溅射法制备As-S玻璃薄膜

顾少轩 , 张林 , 赵光华

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2007.01.019

采用磁控溅射法在ITO导电玻璃上制备As-S玻璃薄膜,采用XRD、透可见-红外性能、扫描电镜、XPS等现代测试手段,研究薄膜的结晶形态、光学性质和成分.结果发现,利用磁控溅射方法得到了透过率较高、光学质量优良、没有明显的缺陷的As-S硫系玻璃薄膜,XPS光电子能谱结果显示薄膜As/S摩尔比为0.686,大于设计组成.

关键词: 磁控溅射 , As-S玻璃 , 薄膜