彭鸿雁
,
赵万邦
,
赵立新
,
姜宏伟
,
孙丽
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.04.002
采用热阴极直流辉光等离子体CVD方法,在氩气/甲烷/氢气混合气氛中制备出纳米晶金刚石膜,研究不同氩气/氢气流量比对纳米晶金刚石膜沉积的影响.对样品形貌的SEM测试表明,随着氩气与氢气流量比由40/160增加到190/10,膜中金刚石晶粒尺寸由约600 nm减小到约30 nm.金刚石膜Raman谱中金刚石特征峰逐渐减弱,石墨G峰逐渐增强,反式聚乙炔特征峰及其伴峰强度加大.等离子体光谱分析表明C2是生长纳米晶金刚石膜的主要活性基团.
关键词:
纳米晶金刚石膜
,
热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积
,
氩气/甲烷/氢气混合气
