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哈氏合金电化学抛光工艺的研究

王毅 , 王盼 , 索红莉 , 贾强 , 卢东琪 , 李怀洲 , 吴海明

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2017.02.008

采用环保型抛光液对离子束辅助沉积技术路线用哈氏合金HastelloyC-276基带进行了电化学抛光,获得了典型的阳极极化曲线,并阐述了电化学抛光的机理.研究了影响电化学抛光的因素(电解液温度、抛光时间、抛光极距)对基带表面粗糙度的影响,优化工艺参数获得了表面粗糙度Rn<5 nm(5μm×5μm)的高质量表面,满足后续生长过渡层对哈氏合金基带的要求.抛光液中的柠檬酸在50℃左右分解成络合剂,可迅速沉淀金属离子,提高表面的活性.

关键词: 表面粗糙度 , 哈氏合金 , 电化学抛光 , 原子力显微镜

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