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化学修饰对多壁碳纳米管电学性质的影响

张云怀 , 肖鹏 , 白玉峰 , 贺健 , 乔雷

材料导报

采用混酸和二甲亚砜对碳纳米管进行官能化修饰,实验发现经化学修饰后对多壁碳纳米管膜的电学性质有明显影响.经化学修饰后的碳纳米管膜电阻由结电阻和管电阻组成,未经化学修饰的碳纳米管膜电阻主要由碳纳米管管电阻决定.碳纳米管经化学修饰后,碳纳米管结增多,碳纳米管管电阻降低而碳纳米管结电阻增大.未经修饰的碳纳米管膜电阻随着温度的升高而略有增大,呈金属性;经混酸修饰的碳纳米管膜电阻随着温度的升高而减小,呈半导体性.

关键词: 碳纳米管 , 化学修饰 , 电阻

Cu掺杂FeVO4光催化剂的制备及其光催化性能

王敏 , 王里奥 , 贺健 , 张东 , 张文杰

材料科学与工艺

为进一步提高钒酸铁(FeVO4)光催化活性,采用液相沉淀法分别制备钒酸铁和钒酸铜前躯体,再将钒酸铁和钒酸铜前驱体混合后进行热处理,制备了铜掺杂钒酸铁光催化剂,并采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、表面积(BET)和X射线光电子能谱分析(XPS)对样品进行表征和分析.在可见光照射下,通过光催化降解甲基橙溶液评价Cu掺杂对FeVO4光催化剂活的影响.结果表明,Cu/FevO4光催化剂为三斜型,当掺杂质量分数大于5%时,晶体中出现新相Cu3Fe4(VO4)6;掺杂后样品的表面形貌产生了变化,但其比表面积变化较小;Cu/FeVO4样品的光催化活性大幅提高,主要是由于FeVO4和新相闻起到类似复合半导体的作用;在所进行实验的条件下,钒酸铜的最佳掺杂质量分数为5%时,掺杂后的FeVO4对甲基橙溶液的脱色率较未掺杂前提高30%左右.

关键词: 钒酸铁 , 铜掺杂 , 光催化剂 , 甲基橙

多壁碳纳米管薄膜离子敏特性的研究

张云怀 , 肖鹏 , 王新强 , 白玉峰 , 贺健

材料导报

对多壁碳纳米管薄膜传感器的离子敏感特性进行了实验研究.结果表明,经化学修饰的多壁碳纳米管薄膜对离子性气体吸附性能良好,由此而设计的传感器表现出良好的灵敏度和快速的响应.

关键词: 碳纳米管 , 化学修饰 , 离子敏

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