徐群杰
,
万宗跃
,
费琳
,
印仁和
,
周小金
腐蚀学报（英文）
doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2009.02.030
用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用.结果表明,植酸分子易在白铜B30表而形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结论一致,同时微分电容曲线表明植酸SAMs的形成改变了电极双电层结构,使得电容值减小,其缓蚀机理为化学吸附过程.
关键词:
植酸
,
自组装膜
,
白铜B30
,
光电化学
,
腐蚀
