张治红
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豆君
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牛晓霞
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闫福丰
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彭东来
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郑先君
材料研究学报
在研究等离子聚合法所合成的聚对二甲苯(ppPX)薄膜的化学结构和性能的基础上,考察了ppPX作为铜在Si-SiLK基体上阻隔层的应用可能性.在特定辉光射频条件下,ppPX膜表面的苯环能够保留.加热退火后,铜向裸Si-SiLK和向经ppPX接枝修饰的Si-SiLK基体的扩散程度存在差异.经由Ar和N2载气所承载的对二甲苯单体所聚合得到的ppPX,具有不同的结构和性能,后者能改善铜和聚合物膜间的粘附力.因此,在Si-SiLK基底表面制备ppPX膜,可提高铜在基体上的粘附强度,又能阻隔铜向内基体内扩散.
关键词:
有机高分子材料
,
等离子体聚合
,
聚对二甲苯
,
扩散隔离
,
低介电常数
