廖国
,
王冰
,
张玲
,
牛忠彩
,
张志娇
,
何智兵
,
杨晓峰
,
李俊
,
许华
,
陈太红
,
曾体贤
,
谌家军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.024
采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1～0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5～1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大；Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加；不同工作气压下制备的Mo膜为立方结构,在较低工作气压下薄膜结晶性能较好.
关键词:
直流磁控溅射
,
Mo薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
詹勇军
,
王锋
,
白黎
,
张素银
,
唐永健
,
吴卫东
,
谌家军
材料导报
以材料非线性光学性质的测试为基础,介绍了原始Z扫描技术的基本原理与数据处理;重点论述了双色时间分辨Z扫描技术的理论,并分析了它在材料光学非线性效应测试中展现的优越性以及应该注意的关键问题.根据Z扫描技术理论和实验的最新研究成果,总结了Z扫描技术的两条发展思路,即:CCD相机代替能量或功率计进行信号的采集和多种改进方法应用于实验测试.
关键词:
Z扫描技术
,
非线性光学效应
,
双色时间分辨Z扫描技术
,
CCD相机
宋萍
,
邢丕峰
,
谌家军
,
李朝阳
,
谢军
,
易泰民
,
林华平
稀有金属材料与工程
具有体密度的高表面质量金属钨薄膜对材料高压状态方程研究具有十分重要的意义.综述了钨箔膜制备的几种方法,包括化学气相沉积、物理气相沉积、机械轧制、机械研磨抛光、化学抛光和电解抛光.综合比较后认为,采用电解抛光法可以基本满足状态方程靶用钨箔膜的需要.电解抛光可以制备表面质量比较高,厚度最小可达几微米的金属箔材,密度与原料相同,而且不会产生内应力、表面硬化、表面沾污问题,是制备低表面粗糙度、具有块材组织结构和密度材料的一种重要手段.
关键词:
钨箔膜
,
制备技术
,
表面粗糙度
,
电解抛光
曾体贤
,
刘其娅
,
陈太红
,
谌家军
人工晶体学报
采用真空热蒸发技术,在光学玻璃基片上生长出排列整齐、高质量的CdSe纳米晶薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱分析(XPS)、扫描电镜(SEM)、傅里叶红外光谱(IR)等进行表征.结果表明,薄膜结晶性能较好,纳米晶颗粒约为40 ～70 nm,呈半月状,排列整齐；化学元素配比为49.4∶50.6,稍微富Se;红外透过率高,禁带宽度为1.89 eV,高于块状的CdSe晶体(1.70 eV).
关键词:
CdSe薄膜
,
热蒸发
,
透过率
,
禁带宽度
宋萍
,
邢丕峰
,
谌家军
,
李朝阳
,
谢军
电镀与涂饰
以硫酸-甲醇酸性体系作为电解液,对钨箔进行电解抛光研究.抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明,该体系完全适用于金属钨的电化学抛光,对钨的阳极溶解行为进行了分析,讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响.初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1:7,槽电压15～22V,温度15～25℃,搅拌速率10m/s.
关键词:
钨
,
电解抛光
,
表面粗糙度
,
反射率
陈太红
,
曾体贤
,
彭松山
,
宋婷婷
,
蒲瑾
,
谌家军
人工晶体学报
本文考虑3d电子和轨道局域性差异和配体旋-轨耦合作用的影响,在晶体场理论和电子顺磁共振理论基础上,采用d轨道模型,推导出了3d2/d8电子组态在D3d对称下的广义能量矩阵,利用双共价因子双旋-轨耦合EPR谱高阶微扰公式,统一解释了CdX2(X=Cl、Br):Ni2+晶体的吸收光谱和EPR谱.
关键词:
晶体场理论
,
电子顺磁共振
,
吸收光谱
,
局域结构
冯文林
,
谌家军
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.02.003
采用晶场参量的叠加模型,建立了结构参数与光谱之间的定量关系;利用完全对角化方法,由光谱确定Ni2CdCl6·12H2O晶体中[Ni(H2O)6]2+络离子在温度为14 K时的局域结构参数,较好地解释了Ni2CdCl6·12H2O晶体中Ni2+离子的局域结构和光学吸收谱;研究结果发现,Ni2CdCl6·12H2O晶体中络离子[Ni(H2O)6]2+的键长为R≈0.2009 nm,键角为θ≈55.1°;所得光谱的理论结果与实验发现很好符合.
关键词:
光谱学
,
局域结构
,
叠加模型
,
完全对角化
,
Ni2CdCl6·12H2O
彭松山
,
陈太红
,
谌家军
硅酸盐通报
在晶体场理论的基础上,本文采用半自洽3d轨道模型和3d9电子组态在畸变晶场中的g因子和超精细结构常数A的三阶微扰计算公式,建立了Cu2+:C8N,14O6Zn局域结构与吸收光谱、EPR谱之间的定量关系,统一解释了Cu2+:C8N14O6Zn晶体的吸收光谱和EPR谱,理论结果与实验观测值相符合.
关键词:
晶体场
,
电子顺磁共振谱(EPR)
,
吸收光谱
,
Cu2+C8N14O6Zn
曾体贤
,
谌家军
,
冯文林
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.05.035
采用半自洽场 (semi-SCF) d轨道波函数模型和点电荷模型,利用高阶微扰公式,在晶体掺杂过渡金属离子后其结构对称性不会被破坏的条件下,由d-d跃迁光谱和EPR谱,确定SrLaAlO4: Cr3+晶体的局域结构.计算发现,掺入Cr3+后,晶体的键长为:R′⊥=0.1922nm, R′∥=0.2197nm.所得计算结果与实验值吻合得很好.
关键词:
SrLaAlO4:Cr3+
,
晶体场
,
光谱
,
EPR谱
彭松山
,
陈太红
,
谌家军
硅酸盐通报
在晶体场理论的基础上,采用半自洽场(Semi-SCF)自由Cu2+的d轨道模型和点电荷模型,建立了过渡金属离子矿物晶体的局域结构和吸收光谱之间的定量关系,统一的解释了孔雀石和蓝铜矿的局域结构和Cu2+的不同占位时的吸收光谱,所得理论计算结果与实验值一致,同时在理论上预测了它们的顺磁g因子,这为进一步研究孔雀石和蓝铜矿的结构、光学、磁学、热学及高压等性质提供了理论依据.
关键词:
晶体场
,
局域结构
,
吸收光谱
,
电子顺磁共振
