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电沉积Fe-Co合金箔工艺的研究

许友 , 罗北平 , 武鹄 , 谢倩 , 任碧野

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2011.05.002

采用电沉积方法制备铁-钴合金箔,探讨了电解液组成和工艺条件对铁-钴合金箔组成的影响,通过扫描电镜、X-射线衍射及能谱仪对铁-钴合金箔的表面形貌、微观结构及组成的分析,结果表明:随阴极电流密度的增大,合金箔中铁质量分数先增后降,随着温度的下降、pH的增加,合金箔的铁质量分数增大;合金箔铁质量分数随亚铁质量浓度的增加而增大,而随柠檬酸钠质量浓度的增加,则先增后降;Fe-Co合金箔物相为铁钴置换固溶体,面心立方晶体结构,晶粒尺寸为19.4 nm,属于纳米晶,表面平整,结构致密,无孔洞及裂纹.

关键词: Fe-Co合金 , , 电沉积

液相等离子体电沉积制备类金刚石薄膜

李巧梅 , 罗北平 , 黄锋 , 许友 , 余红霞 , 武鹄

电镀与涂饰

采用等离子体电沉积法在水-乙醇电解液中制备了类金刚石(DLC)薄膜,工艺条件为:乙醇和水的体积比4∶1,KCl3 g/L,电流密度500 ~ 800mA/cm2,电压1 500V,时间4h.研究了电流密度和电极间距对DLC薄膜的显微硬度、厚度和表面形貌的影响.结果表明,电流密度和电极间距都对电极表面气泡区域厚度、均匀程度、稳定性及电极表面电荷密度有较大影响,适宜的电流密度和电极间距分别为600~700mA/cm2和6~10mm.采用较佳工艺制得的DLC膜表面平整均匀,为多晶结构,摩擦因数约为0.13.

关键词: 类金刚石薄膜 , 等离子体电沉积 , 电流密度 , 极间距

电沉积工艺参数对铁-钴合金箔组成与结构的影响

许友 , 罗北平 , 武鹄 , 谢倩 , 任碧野

电镀与涂饰

研究了电流密度、温度和pH等工艺条件对钛板上电镀Fe-Co 合金箔组成、阴极电流效率、表面形貌和微观结构的影响,电解液配方为:FeSO<,4>·7H<,2>O 40 g/L,COSO<,4>·7H<,2>O 30 g/L,COCl<,2>·6H<,2>O 10 g/L,硼酸30 g/L,柠檬酸三钠40 g,L,抗坏血酸10 g,L,糖精1g/L,十二烷基硫酸钠0.1 g/L.最佳工艺条件为:电流密度4A/dm<'2>,温度50°C,DH 1.5.Fe-CO合金箔为铁钴置换固溶体和面心立方晶体结构,表现出强烈的(111)织构择优取向,结构致密,晶粒细小、均匀,并由尺寸更小的亚晶粒紧密团聚组成.合金箔表面平整,无裂纹和孔洞.

关键词: 铁-钴合金 , 电沉积 , 电流效率 , 晶体结构 , 表面形貌

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