廖国
,
王冰
,
张玲
,
牛忠彩
,
张志娇
,
何智兵
,
杨晓峰
,
李俊
,
许华
,
陈太红
,
曾体贤
,
谌家军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.024
采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1~0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5~1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大;Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加;不同工作气压...
关键词:
直流磁控溅射
,
Mo薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
张占文
,
吴卫东
,
魏胜
,
王朝阳
,
黄勇
,
许华
,
赵鹏骥
材料导报
C60掺杂研究是C60研究领域的一个重要组成部分。C60掺杂化合物从制备方法上分主要有内掺杂和外掺杂两种。从掺杂原子类型分主要有碱金属掺杂、碱土金属掺杂和其它原子掺杂。掺杂种类不同,所得到的结构和性质也不同。C60掺杂化合物最吸引人的性质是其超导电性。在简单介绍C60结构性质的基础上,对C60掺杂化...
关键词:
C60
,
掺杂
,
薄膜
廖国
,
何智兵
,
杨晓峰
,
陈太红
,
许华
,
李俊
,
谌加军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.04.011
采用直流磁控溅射方法在不同工作气压下制备了Bi薄膜,对薄膜的晶体结构、沉积速率、表面形貌和生长模式进行了研究,并对其晶粒尺寸的变化规律进行了分析.X射线衍射(XRD)结果表明Bi薄膜均为多晶斜六方结构.研究发现沉积速率随工作气压的升高先增大后减小.扫描电镜(SEM)图像显示随着工作气压的升高,小晶粒...
关键词:
直流磁控溅射
,
Bi薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
张继成
,
吴卫东
,
许华
,
唐晓红
材料导报
主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果.
关键词:
磁控溅射
,
磁控溅射新技术
,
薄膜制备