王洪祥
,
高石
,
马恩财
,
许乔
,
陈贤华
,
侯晶
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2007.01.034
压痕和刻划实验是测量材料弹性、塑性和断裂行为的最简单方法,磷酸二氢钾(简称KDP)作为优质的非线性光学材料,常用作光学频率转换器件和电光开关元件,一般采用单点金刚石削的方法加工此类零件.为了深入了解KDP晶体单点金刚石切削加工表层力学性能的变化规律,本文对KDP晶体单点金刚石切削加工表层力学性能指标如硬度H、断裂韧性Kc和残余应力σr方面的有关问题进行深入研究,并通过对KDP晶体(001)面不同晶向上的硬度检测,系统分析了KDP晶体加工表面晶向对材料硬度、断裂韧性和残余应力的影响,研究结果表明:KDP晶体的同一晶面的不同晶向硬度和断裂韧性具有强烈的各向异性.
关键词:
KDP晶体
,
硬度
,
断裂韧性
,
残余应力
,
金刚石切削
王洪祥
,
马恩财
,
高石
,
黄志群
,
许乔
,
侯晶
材料科学与工艺
为了求得KDP晶体的应力-应变曲线以及材料的屈服应力,基于圣维南定理和实验得到的材料性能参数建立了KDP晶体的压痕过程仿真模型,利用ABAQUS有限元分析软件对KDP晶体压痕过程进行了有限元仿真,得到了KDP晶体的载荷-位移曲线和加/卸载过程中的等效应力变化规律.仿真结果表明:加载过程中最大应力集中在压头尖角处,卸载后最大应力分布在压头棱边所留下的压痕处,KDP晶体材料的屈服应力为120 MPa.
关键词:
KDP晶体
,
力学性能
,
压痕试验
,
有限元分析
张清华
,
惠浩浩
,
杨伟
,
卫耀伟
,
王健
,
许乔
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2014.14039
在碱性催化条件下,以正硅酸乙酯为前驱体，制备了一种新的、光谱性能持效的短波长减反膜。溶胶制备中，采用20氟基-1,12-十二醇（PFG）控制了二氧化硅颗粒的结构和尺寸，从而一定程度地减小了薄膜的折射率。以PFG修饰的二氧化硅为基础，再采用甲基丙烯酸六氟丁酯的聚合物(PHFBMA)对溶胶进行改性，得到了适用于熔石英基底的PHFBMA/PFG/SiO2减反膜。该改性减反膜在300 nm左右可以达到99.9%的透过率，并且一定湿度条件下和含有机污染物的真空腔室内的考察结果表明，该改性膜层的透过率稳定性获得了显著提升。
关键词:
减反膜
,
溶胶-凝胶
,
短波
,
疏水性
,
有机污染物
