黄美东
,
许世鹏
,
刘野
,
薛利
,
潘玉鹏
,
范喜迎
表面技术
采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响.结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降.当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大；负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高.
关键词:
电弧离子镀
,
TiAlN薄膜
,
负偏压
陈维铅
,
李玉宏
,
许世鹏
,
林莉
,
李增鹏
,
薛仰全
人工晶体学报
以金矿尾砂为主要原料,方解石、硼砂等为添加原料,采用熔融法制备CaO-Al2O3-SiO2系微晶玻璃.采用X射线衍射分析(XRD)、差热分析(DSC)、扫描电镜(SEM)等分析手段对所制备样品进行性能测试与结构表征,研究了TiO2和Cr2O3对金矿尾砂微晶玻璃结晶性能的影响.结果表明,以2％ TiO2为晶核剂,金矿尾砂微晶玻璃只有表面析晶,晶相从表面向内部生长;以4％ TiO2为晶核剂,样品内部析出少量团聚晶体;以2％ Cr2O3为晶核剂,样品内部析出少量团聚粒状晶体;以2％ TiO2和2％ Cr2O3为复合晶核剂,样品内部析出大量均匀分布的颗粒状晶体,极大地提高了金矿尾砂微晶玻璃的整体析晶能力,主晶相为透辉石(CaMgSi2O6),次晶相为钙长石(CaAl2Si2O8).
关键词:
熔融法
,
CaO-Al2O3-SiO2系微晶玻璃
,
金矿尾砂
,
晶核剂
,
结晶
吕长东
,
黄关东
,
刘野
,
许世鹏
,
薛利
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2013.03.002
在国产SA-6T型离子镀膜机上利用反应直流溅射方法,在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面制备TiN膜层,考察氮气流量对薄膜色泽的影响.用扫描电镜对薄膜表面形貌进行观测,发现沉积的TiN膜层质量良好,无孔洞,表面平整、致密.采用色度计定量测试了TiN薄膜的色泽,并分析了氮气流量对色泽的影响.结果表明,氮气流量即沉积气压对装饰镀TiN薄膜的颜色有重要影响,通过调节氮气流量,可有效改变TiN膜层的色泽.TiN薄膜的颜色随氮气流量增大而加深.
关键词:
TiN薄膜
,
磁控溅射
,
装饰镀
,
色泽
,
氮气
许世鹏
,
陈维铅
,
李玉宏
,
李晓伟
材料研究学报
doi:10.11901/1005.3093.2016.104
使用45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧系统(FCVA)制备超薄四面体非晶碳膜(ta-C),研究了弧流对薄膜结构和性能的影响.结果表明:当弧流由40A增加到70A时薄膜沉积速率提高,sp3的含量先增加后减小;当弧流为60A时薄膜sp3的含量达到最大66％,密度也达到最大(3067 kg/m3).残余压应力随着弧流的增加呈现先增加后减小的趋势,当弧流为40A时薄膜的残余应力最小(4 GPa).在碳膜沉积过程中碳源粒子有填充基体凹坑和减少基体缺陷的作用,使其表面非常光滑.超薄ta-C碳膜的表面粗糙度随着弧流的增加先降低后增加,当弧流为50A时薄膜表面粗糙度最小(0.195 nm).
关键词:
无机非金属材料
,
ta-C
,
磁过滤阴极真空电弧
,
弧流
,
结构
许世鹏
,
李玉宏
,
陈维铅
,
林莉
,
李江
,
薛仰全
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.02.019
目的：联合使用光谱型椭偏仪( SE)和分光光度计,精确测定超薄四面体非晶碳薄膜( ta-C)的光学常数。方法由于该薄膜的厚度对折射率、消光系数有很大的影响,仅采用椭偏参数拟合,难以准确得到该薄膜的光学常数,椭偏法测定的未知参数数量大于方程数,椭偏方程无唯一解。因此,加入透过率与椭偏参数同时进行拟合(以下简称SE+T法),以简单、快速、准确地得到该薄膜的光学常数。结果薄膜具有典型的非晶碳膜特征,SE和SE+T两种拟合方法得到的光学常数具有明显的差异,消光系数k在可见以及红外区最大差值可达0.020,紫外区最大的偏差约为0.005；折射率n在500 nm 波长以上最大差值为0.04,在紫外光区和可见光区两种方法得到的n趋于一致。联用时的拟合结果具有更好的唯一性,而且拟合得到的光学常数变得平滑。结论椭偏与分光光度计联用适合精确测定测量范围内的超薄四面体非晶薄膜的光学常数。
关键词:
ta-C
,
薄膜
,
光学常数
,
椭偏仪
,
分光光度计
,
色散模型
