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脉冲激光沉积方法生长硅基ZnO薄膜的特性

何建廷 , 庄惠照 , 薛成山 , 田德恒 , 吴玉新 , 刘亦安 , 胡丽君 , 薛守斌

功能材料

用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)平面上生长ZnO薄膜.X射线衍射(XRD)在2θ=34°处出现了唯一的衍射峰,半高宽为0.75°;傅里叶红外吸收(FTIR)在414.92cm-1附近出现了对应Zn-O键的红外光谱的特征吸收峰;光致发光(PL)测量发现了位于370和460nm处的室温光致发光峰;扫描电子显微镜(SEM)和选区电子衍射(SAED)显示了薄膜的表面形貌以及晶格结构.利用PLD法制备了具有c轴取向高度一致的六方纤锌矿结构ZnO薄膜.

关键词: PLD , ZnO , 薄膜 , 六方纤锌矿结构

衬底温度对PLD方法生长Si(111)基ZnO薄膜结晶质量和发光特性的影响

庄惠照 , 何建廷 , 薛成山 , 张晓凯 , 田德恒 , 胡丽君 , 薛守斌

稀有金属材料与工程

在不同衬底温度下用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)衬底上生长ZnO薄膜.通过对薄膜进行的X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收(FTIR)、光致发光谱(PL)、透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED)的测量,研究了衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的结晶质量、发光性质以及微观结构的影响.发现在600℃的衬底温度下可以得到结晶质量最佳的ZnO薄膜.随着晶粒直径的减小,出现量子限制效应,在红外吸收和光致发光中的峰位均产生了蓝移.

关键词: PLD , ZnO , 薄膜 , 六方纤锌矿结构

硅基正六边形氮化镓纳米颗粒薄膜的制备,结构和形貌特性

庄惠照 , 薛守斌 , 薛成山 , 张晓凯 , 滕树云 , 胡丽君

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.03.005

本文通过在ZnO/Si(111)衬底上,利用JCK-500A型射频磁控溅射系统溅射氧化镓靶得到氧化镓薄膜.然后将硅基Ga2O3置于管武石英炉中,在850℃的氨化温度下氨化15min后,成功制备出GaN薄膜,该薄膜由正六边形的晶粒组成.X射线衍射(XRD)表明GaN具有六方纤锌矿结构,晶格常数为a=0.318nm和c=0.518nm.X射线光电子能谱(XPS)的测试确定了样品中Ga-N键的形成,并且Ga和N的化学计量比为1:1.用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察发现,样品表面非常光滑和平整.透射电镜(TEM)表明薄膜由正六边形晶粒组成.选区电子衍射(SAED)进一步验证了GaN薄膜的六方纤锌矿结构.最后,简单地讨论了其生长机制.

关键词: 氨化法 , 氮化镓薄膜 , 氧化镓薄膜 , 正六边形结构晶粒

氨化温度对氨化Ga2O3/Al膜制备GaN纳米结构材料的影响

庄惠照 , 胡丽君 , 薛成山 , 薛守斌

功能材料

采用磁控溅射的方法在Si(111)衬底上溅射沉积了Ga2O3/Al膜,并通过氨化的方法在Si(111)衬底上获得了GaN纳米结构材料,研究了不同的氨化温度对生成GaN纳米结构材料的影响.对样品进行了傅立叶红外吸收(FTIR)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)以及高分辨电镜(HRTEM)测试,分析了不同温度对GaN样品的结构、组分和形貌等特性的影响.结果表明,用该方法在950℃的氨化温度下得到了大量的六方GaN纳米棒.

关键词: Ga2O3/Al膜 , GaN 纳米棒 , 氨化 , 磁控溅射

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