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射频磁控溅射法制备 TiSiCN 纳米复合膜的微观结构和力学性能研究?

薛增辉 , 李伟 , 卢建富 , 刘平 , 马凤仓 , 刘新宽 , 陈小红 , 何代华

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.07.025

采用射频磁控溅射工艺在 Si 基底上制备TiSiCN 纳米复合膜,固定靶材中的 Ti 含量,通过改变Si 和 C 的含量比沉积得到一系列薄膜,采用 X 射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线光电子能谱(XPS)和纳米压痕仪研究了不同 Si/C含量比对 TiSiCN 纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响.结果表明,Si/C 含量比对 TiSiCN 纳米复合膜的微观结构和硬度具有显著影响,当 Si/C 含量比为Si2 C2时制得薄膜的微观结构为晶化的界面相(SiNx +C)与其包裹的 TiN 纳米晶粒共格外延生长,薄膜硬度达到最高值46 GPa.

关键词: TiSiCN 纳米复合膜 , 微观结构 , 力学性能 , 共格外延生长

不同厚度二维VN插入层对TiSiN纳米复合膜微观结构和力学性能的影响

薛增辉 , 李伟 , 刘平 , 马凤仓 , 刘新宽 , 陈小红 , 何代华

无机材料学报 doi:10.15541/jim20140022

采用TiSi复合靶与V靶,用射频磁控溅射工艺在TiSiN纳米复合膜中插入不同厚度的VN纳米层,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了VN插入层厚度对TiSiN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响.结果表明:当TiSiN纳米复合膜中插入VN纳米层厚度较小时,薄膜由纳米复合结构转变成纳米多层结构,薄膜硬度降低.继续增加VN层厚度,薄膜硬度随之升高,在VN沉积层厚为0.5 nm时薄膜出现连续贯穿多层纳米层、结晶度良好的柱状晶,TiSiN层与VN层呈共格外延生长的结构,薄膜硬度达到37.2 GPa.随着VN层厚的继续增加,薄膜的共格外延生长结构消失,硬度下降.

关键词: TiSiN纳米复合膜 , VN插入层 , 微观结构 , 力学性能

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