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不同环境气压下激光沉积制备锗纳米薄膜的研究

程成 , 薛催岭 , 宋仁国

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2008.10.068

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在不同环境压强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜.用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了环境压强对薄膜的微观结构、形貌以及膜厚的影响规律.结果表明:所制备的纳米薄膜中Ge均为晶态;随着环境压强的增大,薄膜表面由常规的量子点镶嵌结构演变为类网状结构;膜厚随着环境压强的增大而减小.

关键词: 脉冲激光沉积(PLD) , 锗 , 纳米薄膜 , 环境压强