蔡渊
,
蒋亚东
,
韩莉坤
,
李伟
,
廖进昆
高分子材料科学与工程
将新型有机非线性光学分子DCDHF-2-V按一定比例掺入聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中,采用旋涂方法制备聚合物薄膜.为了得到宏观二阶非线性光学特性,在90 ℃对薄膜进行电晕极化,形成各向异性.对极化前后的薄膜进行紫外/可见光吸收频谱分析和原子力显微镜分析.采用RHF方法在6-31G基组上对DCDHF-2-V/PMMA薄膜体系中的DCDHF-2-V分子和PMMA进行闭壳层Hartree-Fock理论计算,得到它们的一阶超极化率β分别为60.278755×10-30esu和10.902267×10-34esu.
关键词:
有机非线性光学
,
电晕极化
,
Hartree-Fock
,
一阶超极化率
高永超
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程好
,
杨淑平
,
庄维伟
,
蔡渊
,
张国栋
表面技术
目的 研发一种适合工业生产连续带材的非接触式电化学抛光方法.方法 采用以磷酸-硫酸为主要氧化剂的环保型电化学抛光液对金属基带进行电化学抛光,研究阳极电流密度(JA)、电解液温度(t)、基带与电极间的距离(L)和走带速度(v)对基带表面粗糙度的影响,优化抛光工艺条件.结果 优化的工艺条件如下:JA为1500 ～ 2500 A/m2,t为40 ～ 80℃,L为4～12 mm,v为0.5～1.8 m/min.在此工艺条件下进行电化学抛光,极为有效地降低了金属基带的表面粗糙度,光亮度达到镜面状态,原子力显微镜测试5μm×5μm范围内的表面平均粗糙度值低于1.0 nm.结论 该抛光工艺实现了千米级基带的连续性抛光,达到工业化生产要求.
关键词:
非接触式
,
电化学抛光
,
工艺条件
,
平均粗糙度
